★2025年10月28日WEBでオンライン開講。WEBでオンラインLive講義にどこからでも参加できます。SOMPOインスティチュート・プラス株式会社　 秦野　貫　氏のご講演。フィジカルAI・ヒューマノイドロボットの開発最前線、海外動向と日本の見通しにつき、ご講演いただきます。

★フィジカルAIが拓く新時代 ― ヒューマノイドから社会実装まで、世界と日本の展望を読み解く！

★米中欧の先端動向から日本の未来戦略まで。フィジカルAIの研究・事業開発に直結する知見を得る講座です！

★2025年10月29日WEBでオンライン開講。イトウデバイスコンサルティング　 伊藤氏（元コーニングジャパン）、 株式会社レゾナック　藤氏、東レエンジニアリング株式会社　河村氏がそれぞれの立場で先端半導体パネルレベルパッケージ対応とガラス化の最新動向・材料・装置について解説する講座です。

■注目ポイント

★先端半導体パッケージング技術におけるガラスとパネルレベルパッケージ（PLP）の動向を解説！ガラス基板とビア加工・パネルレベルインターポーザー・PLP塗布装置などを中心に講演する！

★従来の半導体パッケージの機能や構造、進化について概観し、次に、アドバンストパッケージなどにおけるガラス基板、ビア加工、ガラスやパネルレベルインターポーザーの基礎知識や採用の背景、装置動向、プロセス、課題について掘り下げる！

★2025年10月29日WEBオンライン開講。国立研究開発法人 産業技術総合研究所　細川 明秀 氏が、ポストネオジム磁石 最新開発動向 ～ネオジム磁石の基礎、Sm2Fe17N3磁石への展開と特長、Feリッチ組成磁石 最新開発動向～ について解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★CO2排出量の削減が問われる昨今、それらを推進する風力発電や自動車の電動化のモーター部分には、ネオジム磁石が利用されています。本講座では今後も伸び続ける事が予測されているネオジム磁石を含めた永久磁石材料の基礎と最近の動向について説明し、その上でポストネオジム磁石の候補として知られるSm2Fe17N3化合物の紹介と、実用化に向けた開発の歴史を前半(1990~2015年ごろ)と後半(2015~2025年ごろ)に分けて解説します。特に後半では産総研を中心として進めてきた独自研究の流れをダイジェストで紹介する内容となっており、さらにより高性能が期待されるFeリッチ組成磁石の開発動向についても概説します。ポストネオジム磁石開発の動向も紹介、新規磁石開発に取り組む方々の参考になれば幸いです。

★諸事情により日程を再調整いたしました。2025年10月31日開講。合同会社アミコ・コンサルティング　 CEO　 友安　昌幸　先生（元東京エレクトロン株　Samsung Electronics　華為技術日本株式会社）が、ドライエッチングの基礎・最新技術動向と微細加工技術について解説します。

★長年にわたり半導体製造プロセス、特にドライエッチング技術の研究開発に従事し、基礎理論から最先端の量産プロセスにおける実務経験までを幅広く網羅した内容！

★複雑な技術内容を、具体的な事例や図解を交えながら、半導体製造に馴染みのない方でも直感的に理解できるよう丁寧に解説します。

★2025年10月31日WEBでオンライン開講。WEBでオンラインLive講義にどこからでも参加できます。第一人者の株式会社LXスタイル　代表取締役　杉田 正 氏のご講演。AI時代のデータセンターが抱える熱問題の現状・課題と冷却技術による対策動向および今後の展望についてご講演いただきます。

★サーバー高密度化と生成AI普及により、データセンターの熱負荷と電力消費は急増している！

★その中でも放熱・冷却システムは安定稼働だけでなく、電力コスト削減と環境規制対応の要となる。

★本講座では、省エネ型冷却技術の最新動向と産業界の課題解決策を理解するためのヒントとしたい。

★2025年11月5日WEBオンライン開講。BHオフィス 代表　大幸 秀成 氏（元 株式会社東芝）が、CMOSの基礎と応用・活用技術 ～特徴・基礎構造・設計・基本動作/機能・シミュレーションツールほか～ について解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★1970年代に登場したCMOSデバイスは現在の半導体製品の基礎技術として常に進化しています。低消費電力、広い動作電圧、高い集積度等により、あらゆる電機・電子機器に組み込まれ、ダウンサイジングや電池による長時間動作の実現に欠かせないテクノロジーです。　
　コンピューティングに必要な演算回路はすべてCMOS回路で成り立っています。コンピューター・サーバーに用いるNVIDIAのGPUは数百億のCMOS素子が集積されたデバイスであり、これの出現によって、生成AIの商用化が加速されました。また、スマホやパソコン、スマートウォッチもCMOSデバイスの進化が支えています。今一度CMOSの歴史と進化、基本機能、活用事例、そして今後の展開を見てみましょう。

★2025年11月13日WEBオンライン開講。【関西学院大学・教授：大谷氏】が、半導体前工程で重要となるSiCのバルク結晶成長からウェハ加工、薄膜技術まで、最近の開発動向と今後の展望を解説する講座です。

★2025年11月20日WEBでオンライン開講。サクセスインターナショナル株式会社　池永　和夫　氏が半導体パッケージと組立てプロセスについて解説する講座です。

■注目ポイント

★パッケージに求められる機能及び構造・種類とパッケージに収納される組立てプロセスを解説！

★最近のパッケージの技術動向とその課題についても学ぶ事ができる！

★2025年11月21日WEBオンライン開講。東京科学大学　ファム ナムハイ 氏が、強磁性半導体 最新開発状況 ～基礎と特長、世界最高スピン機能半導体デバイスの実現～について解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★半導体と磁性体の特徴を融合できる強磁性半導体は、磁性体の不揮発性を持ち併せたようなエネルギー使用効率が極めて高い半導体デバイスが実現できると期待される。本講演では、強磁性半導体の第一人者である東京科学大学のファムナムハイ先生に、これまでとこれからの強磁性半導体について講演いただきます。

★2025年11月25日WEBでオンライン開講。東京大学　霜垣氏が、【ＡＬＤ（原子層堆積法）技術の最前線：基礎から最新動向まで】について解説する講座です。

■注目ポイント

★ALDの基礎から最前線までを一日で俯瞰（明日から使えるALD最適化知識を持ち帰れます）！