書籍

【講師】
Eリソリサーチ　代表　遠藤　政孝　氏

【主旨】
　メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。微細加工を支えるリソグラフィ技術は現在最先端の3nmノードの量産工程でEUVが用いられており、今年度の2nmノード以降その役割は益々増大する。EUVレジストはこのようなEUVリソグラフィ技術の変革に対応して進展し続けている。
　本テキストでは、最新のロードマップとEUVリソグラフィの概要を紹介した後、EUVレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向を解説する。注目されているEUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセスについても詳しく述べる。最後に今後のEUVレジストの技術展望、市場動向についてまとめる。


【プログラム】

1.ロードマップ
　1.1リソグラフィ技術、レジスト材料への要求特性
　1.2微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
　1.3最先端デバイスの動向

2.EUVリソグラフィの概要
　2.1露光装置
　2.2光源
　2.3マスク

3.EUVレジストの基礎
　3.1EUVレジストの設計指針
　3.2化学増幅型EUVレジストの反応機構
　3.3EUVレジストプロセス

4.EUVレジストの要求特性
　4.1化学増幅型EUVレジスト用ポリマー
　4.2化学増幅型EUVレジスト用酸発生剤・クエンチャー

5.EUVレジストの課題と対策
　5.1感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
　5.2ランダム欠陥（Stochastic Effects）
　5.3EUVレジストの開発動向
　　5.3.1ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
　　5.3.2ネガレジストプロセス

6. EUVメタルレジスト
　6.1 EUVメタルレジスト用材料
　6.2 EUVメタルレジストの反応機構
　6.3 EUVメタルレジストの性能と開発動向

7.EUVメタルドライレジストプロセス
　7.1EUVメタルドライレジストプロセス用材料
　7.2EUVメタルドライレジストプロセスの反応機構
　7.3EUVメタルドライレジストプロセスの性能と開発動向

8. EUVレジストの技術展望、市場動向


【キーワード】
リソグラフィ、レジスト、EUVリソグラフィ、EUVレジスト、EUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセス、ロードマップ


【ポイント】

EUVレジスト、EUVメタルレジストについて、基礎から要求特性、課題と対策、最新技術動向まで把握できます。最新のロードマップにおける位置づけ、ビジネス動向を確認できます。


【習得できる知識】

１）EUVレジスト、EUVメタルレジストの基礎
２）EUVレジスト、EUVメタルレジストの要求特性、課題と対策
３）EUVレジスト、EUVメタルレジストの最新技術動向
４）EUVレジスト、EUVメタルレジストのビジネス動向