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セミナー詳細

セミナー

フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法について

★光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎について解説!

セミナー番号 S200121
セミナー名 フォトレジスト材料
講師名

東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授 博士(工学) 有光 晃二 氏

開催日 2020年01月27日(月) 12:30-16:30
会場名

高砂ビル 2F CMC+AndTech FORUM セミナールーム【東京・千代田区】(住所:101-0047 東京都千代田区内神田1-3-1 高砂ビル2F)

アクセスマップ

支払い方法 銀行振込,当日支払
受講料(税込)

【1名の場合】39,600円(税込、テキスト費用を含む)
2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。

詳細

定員:30名


※ お申し込み後、受講票と請求書が自動で返信されます。請求書記載の銀行口座に沿って、お振り込みをお願いします。また請求書に記載の「株式会社」や「(株)」「会社名」はお客様の記入通りの表記になりますので、ご希望の形式で記載をお願いします。
※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、請求書受講票を代表者様にご連絡します
※ 請求書・領収書の発行形式への要望があれば、申込時、備考欄へ記載ください。
※ 参加時に名刺をご持参ください。参加者は、途中変更も可能です。
※ ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます

※ 弊社講座では、同一部署、申込者のご紹介があれば、何名でもお1人11,000円で追加申し込みいただけます。(申込者は正規料金、お二人目以降は11,000円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取り纏いただくか、申込時期が異なる場合は紹介者のお名前を備考欄にお書きくださいますよう、お願いいたします。

上記以外は正規料金となりますのでご理解ください。


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講師プロフィール

東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授 博士(工学) 有光 晃二 氏

【著作】
23.有光晃二監修、「UV・EB硬化技術の最新応用展開-3Dプリンターから住環境まで-」、シーエムシー出版、2014、7月7日発行

【受賞】
1.受賞名:Photopolymer Science and Technology Award 2000
 受賞先:Technical Association of Photopolymers, Japan
 受賞日:平成12年6月
2.受賞名:高分子学会日立化成賞
 受賞先:高分子学会
 受賞日:平成17年9月21日

【ご経歴】
平成9年7月 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 電子化学専攻 博士課程中退
同年7月 東京工業大学 資源化学研究所 光機能化学部門 教務職員
平成13年3月 博士(工学) 東京工業大学
同年4月 東京理科大学 理工学部 工業化学科 助手
平成18年4月 マサチューセッツ工科大学 (Prof. Timothy M. Swager) 博士研究員[平成19年3月まで]
平成19年4月 東京理科大学 理工学部 工業化学科 講師
平成22年4月 東京理科大学 理工学部 工業化学科 准教授
平成29年4月 同大学 同学部 先端化学科 教授 (平成29年4月より学科名を先端化学科に改称)
現在に至る

講演主旨

 光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎について述べる。さらに、酸増殖剤や塩基増殖剤を用いた高感度化の手法、硬化不良対策について筆者らの研究を中心に述べる。


【キーワード】
光酸発生剤、光塩基発生剤、酸増殖剤、塩基増殖剤、高感度化、硬化不良対策、EUVレジスト、シュリンク剤

プログラム

※こちらは以前のプログラム内容でございます。

1.光酸発生剤
 1-1 光酸発生剤の構造と特性
 1-2 UV硬化への応用
 1-3 化学増幅レジストへの応用

2.酸増殖剤
 2-1 酸増殖剤の構造と特性 
 2-2 化学増幅レジストの高感度化
 2-3 UV硬化の高効率化・硬化不良対策

3.光塩基発生剤
 3-1 非イオン型光塩基発生剤の特性と応用 
 3-2 イオン型光塩基発生剤の特性と応用

4.塩基増殖剤
 4-1 塩基増殖剤の構造と特性
 4-2 光パターニング材料への応用
 4-3 UV硬化の高効率化・硬化不良対策

5.まとめ

【質疑応答 名刺交換】

アクセスマップ

住所:東京都千代田区内神田1-3-1 高砂ビル2F ◆東京メトロ 大手町駅下車 C1出口から徒歩5分 ◆東京メトロ 竹橋駅下車 1番出口から徒歩10分、都営新宿線 小川町駅下車 B6出口から徒歩10分 ◆神田駅下車 西口から徒歩10分

お申込み

お申込み人数
小計 39,600円(消費税込)

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