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半導体フォトレジスト・材料の基礎と応用展開・トラブル対策

開催日時　2023年8月31日（木） 13:00-17:00

受講料　1名39,600円（税込）より

セミナー内容

≪こちらはWEBセミナーのお申し込みURLになります≫

★ポジ型のフォトレジストに限定し、各世代の露光機毎のフォトレジスト材料の構成と、その取り扱い上の注意点、および、そのプロセス条件依存性について解説！

★ポジ型フォトレジストのパターニング特性を左右する使用プロセスとフォトレジストのパターニング特性に与える影響因子とは？


【今回の登壇者】

  • 第1講：ACE LABO.：山田　達也 氏「」

講師紹介

プログラム

13:00-17:00

第1講

講　師

ACE LABO.　代表 山田　達也 氏

【プログラム】

1.ポジ型フォトレジスト材料(基礎)
　1-1　フォトレジストの定義とポジレジスト／ネガレジスト概要
　1-2　露光世代別ポジ型フォトレジストに使用されている構成原料概要
　1-3　光化学反応とパターニングの原理


２.フォトリソグラフィプロセス概要とポジ型フォトレジストに求められる特性概要

3.ポジ型フォトレジストのパターニング特性を左右する使用プロセスとフォトレジストのパターニング特性に与える影響因子
　3-1　塗布装置
　3-2　ベーク（プリベーク、PEB、ポストベーク）装置
　3-3　露光装置・マスク
　3-4　現像装置   

4.パターニング後のポジ型フォトレジストの適用プロセスとプロセス耐性に与える影響因子
　4-1　ウェットエッチングプロセス
　4-2　ドライエッチングプロセス
　4-3　イオンインプラプロセス
　4-4　めっきプロセス
　4-5　リフトオフプロセス

5.フォトレジスト材料の取り扱い上の留意点
　5-1　製造上の留意点
　5-2　保管上の留意点

開催概要

セミナー番号 S230806
セミナー名 半導体フォトレジスト
講師名 ACE LABO.　代表　山田　達也　氏
開催日時 2023年08月31日（木） 13:00〜17:00
会場 ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です
受講料

【1名の場合】39,600円(税込、資料作成費用を含む)
2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。
定員 1名
備考

定員：30名

※　お申込み時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ず、ご確認ください。
※　銀行振り込みをご選択ください。お支払いは会社のご都合で講座前日に間に合わない場合、開催月翌月末あたりまでお待ち申し上げます。
※　お申し込み後、受講票と請求書が自動で返信されます。請求書記載の銀行口座に沿って、お振り込みをお願いします。また請求書に記載の「株式会社」や「(株)」「会社名」はお客様の記入通りの表記になりますので、ご希望の形式で記載をお願いします。
※　2名以上でお申し込みをされた場合は、請求書受講票を代表者様にご連絡します
※　領収書の要望があれば、申込時、備考欄へ記載ください。
※　ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます
※　当講座では、同一部署、申込者のご紹介があれば、何名でもお1人につき11,000円で追加申し込みいただけます。(申込者は正規料金、お二人目以降は11,000円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取り纏いただくか、申込時期が異なる場合は紹介者のお名前を備考欄にお書きくださいますよう、お願いいたします。

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