LIVE配信・WEBセミナー
開催日時 2024年8月30日(金) 13:30-16:30
受講料 1名38,500円(税込)より
★2024年8月30日WEBオンライン開講。【富士フイルム・シニアエキスパート:藤森氏】微細加工に必要なリソグラフィ技術、フォトレジスト技術の基礎から現状、今後の展望を解説する講座です。
■本講座の注目ポイント
①フォトレジスト材料開発、ナノインプリントレジスト材料開発、リソグラフィプロセス、国プロジェクトを経験している講師がリソグラフィの歴史から基礎、今後の展望までを楽しく解説してくれます
②微細加工リソグラフィとしてのEUVリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィについて解説します
③EUVプロジェクトのロードマップとして「High NA EUV」についても解説します
01 富士フイルム株式会社 藤森 亨 氏
13:30-16:30
第1講
講 師
富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ開発センター シニアエキスパート 藤森 亨 氏
【講演主旨】
≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫
【プログラム】
1.私たちを取り巻く環境
1.1 EUVリソグラフィと生活への適用
1.2 富士フイルムの電子技術
2. リソグラフィ微細化の歴史
2.1 「ムーアの法則」を実現するためのパターン縮小
2.2 EUVリソグラフィの必要性
3. EUVレジスト技術
3.1 EUVレジストへの挑戦
3.2 リソグラフィーにおける確率的問題
3.3 フォトンショットノイズ
3.4 「KrF/ArF」と「EUV」の違い
3.5 高EUV吸収材料
3.6 パターン収縮の歴史
4. ナノインプリントレジスト
4.1 EUVプロジェクトのロードマップ
4.2 高NA極端紫外線露光 (High NA EUV)の特徴
4.3 NIL技術の特徴
4.4 NIL向けレジスト開発
【質疑応答】
| セミナー番号 | S240854 |
|---|---|
| セミナー名 | EUVリソグラフィ |
| 講師名 | 富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ開発センター シニアエキスパート 藤森 亨 氏 |
| 開催日時 | 2024年08月30日(金) 13:30〜16:30 |
| 会場 | ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です |
| 受講料 | ●1名様 :38,500円(税込、資料作成費用を含む) |
| 定員 | 1名 |
| 備考 | 定員:30名 |