微細加工リソグラフィ用レジスト開発の動向および今後の展開
~EUVリソグラフィ、High NA EUV、ナノインプリントリソグラフィへの適用~
★2024年8月30日WEBオンライン開講。【富士フイルム・シニアエキスパート:藤森氏】微細加工に必要なリソグラフィ技術、フォトレジスト技術の基礎から現状、今後の展望を解説する講座です。
■本講座の注目ポイント
①フォトレジスト材料開発、ナノインプリントレジスト材料開発、リソグラフィプロセス、国プロジェクトを経験している講師がリソグラフィの歴史から基礎、今後の展望までを楽しく解説してくれます
②微細加工リソグラフィとしてのEUVリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィについて解説します
③EUVプロジェクトのロードマップとして「High NA EUV」についても解説します
- 富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ開発センター シニアエキスパート 藤森 亨 氏
●1名様 :38,500円(税込、資料作成費用を含む)
●2名様以上:16,500円(お一人につき)
※受講料の振り込みは、開催翌月の月末までで問題ありません
定員:30名
※ お申し込み後、受講票と請求書のURLが自動で返信されます。基本的にはこちらで受付完了です。開催前日16:00までに再度最終のご連絡をいたします。請求書と受講票は郵送ではないため必ずダウンロードください。また、同時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ずご確認ください。
※ セミナー前日夕方16:00までにWEB会議のURL、事前配布資料のパスワードについて、別途メールでご案内いたします。基本的にはマイページからのダウンロードの流れとなります。なお、事前配布資料については、講師側の作成完了次第のお知らせになりますので、この点、ご理解のほどお願い申し上げます。
※ 請求書の宛名の「株式会社」や「(株)」の「会社名の表記」は、お客様の入力通りになりますので、ご希望の表記で入力をお願いします。
※ お支払いは銀行振込、クレジット決済も可能です。銀行振込でお支払いの場合、開催月の翌月末までにお支払いください。お支払いの際は、社名の前に請求書番号をご入力ください。
※ 領収書のご要望があれば、お申込み時、領収書要にチェックを入れてください。
※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、受講票と請求書を代表者様にご連絡します。
※ 当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき16,500円で追加申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は16,500円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取りまとめいただくか、申込時期が異なる場合は紹介者様のお名前を備考欄にお書きくださいますようお願いいたします。
※ なお、ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。
【本セミナーの主題および状況・本講座の注目ポイント】
≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫
【時間】 13:30-16:30
【講師】富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ開発センター シニアエキスパート 藤森 亨 氏
【講演主旨】
微細加工に必要なリソグラフィ技術、そのための材料であるフォトレジストは、長い歴史を経て、EUVリソグラフィの実現を迎えた。しかしながら、適用可能なデバイスメーカーおよび適用レイヤーが限られており、それは露光装置およびその運営コストの高さに一端がある。
一方、ナノインプリントリソグラフィも微細加工リソグラフィとして長い間検討がなされるも困難な道のりを歩んできたが、EUVの適用困難性から、近年再び脚光をあびてきている。キヤノンの装置発表、富士フイルムの材料プレスリリースは記憶に新しい。微細加工リソグラフィとしてのEUVリソグラフィおよびナノインプリントリソグラフィに関し、時間の許す限り紹介する。
【習得できる知識】
①リソグラフィにおけるナノインプリントの位置づけ
②最先端リソグラフィ用EUVレジストとナノインプリントレジストの基礎と課題
【講演キーワード】
ナノインプリント、NIL、EUV、レジスト、リソグラフィ、微細化、ムーアの法則、ネガティブトーン現像、NTD
【講演のポイント】
フォトレジスト材料開発、ナノインプリントレジスト材料開発、リソグラフィプロセス、国プロジェクト経験など、講演者はそれらの技術に直接従事もしくは議論・プロジェクト参加した経験があり具体的な課題・展望についての紹介が可能。リソグラフィの歴史における最先端リソグラフィレジストの代表としてのEUVレジストおよびナノインプリントレジストの材料開発を解説する。
【プログラム】
1.私たちを取り巻く環境
1.1 EUVリソグラフィと生活への適用
1.2 富士フイルムの電子技術
2. リソグラフィ微細化の歴史
2.1 「ムーアの法則」を実現するためのパターン縮小
2.2 EUVリソグラフィの必要性
3. EUVレジスト技術
3.1 EUVレジストへの挑戦
3.2 リソグラフィーにおける確率的問題
3.3 フォトンショットノイズ
3.4 「KrF/ArF」と「EUV」の違い
3.5 高EUV吸収材料
3.6 パターン収縮の歴史
4. ナノインプリントレジスト
4.1 EUVプロジェクトのロードマップ
4.2 高NA極端紫外線露光 (High NA EUV)の特徴
4.3 NIL技術の特徴
4.4 NIL向けレジスト開発
【質疑応答】