LIVE配信・WEBセミナー
開催日時 2026年2月25日(水) 13:00-17:00
受講料 1名45,100円(税込)より
★2026年2月25日WEBオンライン開講。【東京大学: 藤原弘和氏】半導体メーカーでのデバイス開発経験を持つ講演者が、EUVリソグラフィ技術の原理や課題、レジスト材料について解説します。
■本講座の注目ポイント
当日にご参加できない方は録画視聴が可能です。(2/25~3/11)
本講演では、微細加工技術の基礎から始まり、フォトリソグラフィ技術の原理や特長、さらに最新のEUVリソグラフィ技術について、光と物質の相互作用に基づいて詳しく解説します。リソグラフィを学びたい方、レジスト材料開発に携わる方に向けた講座です。
01 東京大学 藤原 弘和 氏
13:00-17:00
第1講
講 師
東京大学 物性研究所 / (元)キオクシア 藤原 弘和 氏
【プログラム】
1. 微細加工技術
1.1 微細加工の基礎
1.2 微細加工パターンの評価手法
1.2.1 光学顕微鏡
1.2.2 電子顕微鏡
1.2.3 プローブ顕微鏡
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2. フォトリソグラフィの基礎
2.1 フォトリソグラフィ技術の原理
2.2 フォトリソグラフィの特長
2.3 フォトリソグラフィの歴史
2.4 フォトリソグラフィ技術の材料
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3. EUVリソグラフィ技術の基礎
3.1 EUVリソグラフィ装置
3.2 EUV露光の物理
3.3 EUVレジスト
3.3.1 化学増幅型レジスト
3.3.2 非化学増幅型レジスト
3.3.3 メタルレジスト
3.3.4 その他のレジスト
3.4 レジスト周辺材料
3.5 EUVフォトマスク
3.5.1 EUVマスクブランクス
3.5.2 EUVペリクル
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4. EUVリソグラフィ技術の応用事例
4.1 GAAトランジスタ
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5.フォトリソグラフィ技術の課題と展望
【質疑応答】
| セミナー番号 | S260253 |
|---|---|
| セミナー名 | EUVリソグラフィ・レジスト材料 |
| 講師名 | 東京大学 物性研究所 / (元)キオクシア 藤原 弘和 氏 |
| 開催日時 | 2026年02月25日(水) 13:00〜17:00 |
| 会場 | ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です |
| 受講料 | ●1名様 :45,100円(税込、資料作成費用を含む) |
| 定員 | 1名 |
| 備考 | 定員:30名 |