リソグラフィ技術の基礎およびEUVリソグラフィ・レジスト周辺技術と展望
【録画視聴の対象セミナー】
★2026年2月25日WEBオンライン開講。【東京大学： 藤原弘和氏】半導体メーカーでのデバイス開発経験を持つ講演者が、EUVリソグラフィ技術の原理や課題、レジスト材料について解説します。
■本講座の注目ポイント
当日にご参加できない方は録画視聴が可能です。（2/25～3/11）
本講演では、微細加工技術の基礎から始まり、フォトリソグラフィ技術の原理や特長、さらに最新のEUVリソグラフィ技術について、光と物質の相互作用に基づいて詳しく解説します。リソグラフィを学びたい方、レジスト材料開発に携わる方に向けた講座です。
- 東京大学 大学院新領域創成科学研究科 藤原 弘和 氏
●1名様 ：45,100円（税込、資料作成費用を含む）
●2名様以上：16,500円（お一人につき）
※受講料の振り込みは、開催翌月の月末までで問題ありません
定員：30名
※ お申し込み後、受講票と請求書のURLが自動で返信されます。基本的にはこちらで受付完了です。開催前日16：00までに再度最終のご連絡をいたします。請求書と受講票は郵送ではないため必ずダウンロードください。また、同時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ずご確認ください。
※ セミナー前日夕方16：00までにWEB会議のURL、事前配布資料のパスワードについて、別途メールでご案内いたします。基本的にはマイページからのダウンロードの流れとなります。なお、事前配布資料については、講師側の作成完了次第のお知らせになりますので、この点、ご理解のほどお願い申し上げます。
※ 請求書の宛名の「株式会社」や「(株)」の「会社名の表記」は、お客様の入力通りになりますので、ご希望の表記で入力をお願いします。
※ お支払いは銀行振込、クレジット決済も可能です。銀行振込でお支払いの場合、開催月の翌月末までにお支払いください。お支払いの際は、社名の前に請求書番号をご入力ください。
※ 領収書のご要望があれば、お申込み時、領収書要にチェックを入れてください。
※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、受講票と請求書を代表者様にご連絡します。
※ 当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき16,500円で追加申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は16,500円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取りまとめいただくか、申込時期が異なる場合は紹介者様のお名前を備考欄にお書きくださいますようお願いいたします。
※ なお、ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。
【時間】 13:00-17:00
【講師】東京大学 大学院新領域創成科学研究科 藤原 弘和 氏
【講演主旨】
フォトリソグラフィ技術の進化は、半導体集積回路の集積度向上を支えてきました。最先端の極端紫外線（EUV）リソグラフィによって20nm以下の線幅まで解像可能となり、微細化による半導体製品の高性能化のトレンドは継続するとみられます。しかし、EUVリソグラフィには特有の課題があり、EUV光源やレジスト材料等の高度化が進められています。
本講演では、微細加工技術の基礎から始まり、フォトリソグラフィ技術の原理や特長、さらに最新のEUVリソグラフィ技術について、光と物質の相互作用に基づいて詳しく解説します。EUVリソグラフィの装置やレジスト、フォトマスクなどの要素技術から応用事例までを網羅し、最後にフォトリソグラフィ技術の課題と今後の展望について紹介します。これにより、微細加工分野における最先端技術の理解を深めていただくことを目的としています。
【講演のポイント】
本講演は、物性物理学を専門とし半導体メーカーでのデバイス開発経験を持つ講演者が、EUVリソグラフィ技術の原理や課題を物理学に基づき解説します。物質と光の相互作用を講演の基軸に置き、EUVリソグラフィの利点や課題を基礎から理解することを助けます。
【習得できる知識】
①リソグラフィの物理・評価技術
②レジストの感光原理
③半導体デバイス技術
【講演キーワード】
半導体、微細加工、EUVリソグラフィ、レジスト
【プログラム】
1. 微細加工技術
1.1 微細加工の基礎
1.2 微細加工パターンの評価手法
1.2.1 光学顕微鏡
1.2.2 電子顕微鏡
1.2.3 プローブ顕微鏡
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2. フォトリソグラフィの基礎
2.1 フォトリソグラフィ技術の原理
2.2 フォトリソグラフィの特長
2.3 フォトリソグラフィの歴史
2.4 フォトリソグラフィ技術の材料
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3. EUVリソグラフィ技術の基礎
3.1 EUVリソグラフィ装置
3.2 EUV露光の物理
3.3 EUVレジスト
3.3.1 化学増幅型レジスト
3.3.2 非化学増幅型レジスト
3.3.3 メタルレジスト
3.3.4 その他のレジスト
3.4 レジスト周辺材料
3.5 EUVフォトマスク
3.5.1 EUVマスクブランクス
3.5.2 EUVペリクル
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4. EUVリソグラフィ技術の応用事例
4.1 GAAトランジスタ
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5．フォトリソグラフィ技術の課題と展望
【質疑応答】
※当日以外のアーカイブ視聴をご希望の方は、お申込みの備考欄に『当日以外のアーカイブ視聴希望』をご記入ください
※受講料の振り込みは、開催翌月の月末までで問題ありません
※前日のお申込みでも、対応させていただきます