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開催日時 2026年6月19日(金) 13:00-17:35
受講料 1名55,000円(税込)より
★2026年6月19日開講。【①芝浦機械:小久保氏】【②産総研:穂苅氏】【③日本板硝子:壹岐氏】の3名の専門家が、ナノインプリントと光学デバイスへの応用として、微細加工技術から偏光素子や調光ブラインド、ガラスナノインプリントについて解説します。
― 光学部材から光電融合まで、レンズ・偏光・光制御を実現する微細構造形成技術 ― ナノインプリント技術は、レンズ、偏光素子、光制御部材などの微細光学構造を高精度かつ高効率に形成できる技術として注目されています。近年では、大面積化を可能とするRoll to Rollプロセスや、ガラス材料への適用による高耐久光学素子の開発が進み、光学デバイス分野での活用が拡大しています。
本講座では、ナノインプリント装置・プロセス技術から、ウエハレベルレンズ、偏光素子、ガラス微小光学素子、さらには光電融合パッケージへの応用まで、最新の技術動向を解説します。
01 芝浦機械株式会社 小久保 光典 氏
02 国立研究開発法人産業技術総合研究所 穂苅 遼平 氏
03 日本板硝子株式会社 壹岐 耕一郎 氏
13:00-15:00
第1講
講 師
芝浦機械株式会社 常務執行役員 R&Dセンター センター長 小久保 光典 氏
【講演主旨】
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第1講:13:00-15:00(芝浦機械株式会社:小久保 氏)
「ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例」
第2講:15:10-16:25(産総研:穂苅 氏)
「ナノインプリントを用いた光学部材の研究開発」
第3講:16:35-17:35(日本板硝子株式会社:壹岐 氏)
「ガラス材料とナノインプリント技術の融合による微小光学素子への展開、及びオプトエレクトロニクスデバイスへの応用」
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【プログラム】
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1. 芝浦機械株式会社の紹介
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2. ナノインプリントプロセス
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2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
2.3 ナノインプリント装置構成と特徴
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3. ナノインプリント装置と転写事例の紹介
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3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series
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4. ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
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4.1 LED
4.1.1 プロセス説明
4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED
4.2 WLL(Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ)
4.2.1 プロセス説明
4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作
4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
4.3 ワイヤーグリッド偏光子(大面積転写)
4.3.1 プロセス説明
4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積(G2(370×470mm))サイズのWGP作製(残膜(RLT:Residual Layer Thickness)目標50nm以下への挑戦
4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP
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5. 装置開発の課題と今後の展望 & 質疑応答
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15:10-16:25
第2講
講 師
国立研究開発法人産業技術総合研究所 製造基盤技術研究部門 表面機能・トライボロジー研究グループ 穂苅 遼平 氏
【講演主旨】
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第1講:13:00-15:00(芝浦機械株式会社:小久保 氏)
「ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例」
第2講:15:10-16:25(産総研:穂苅 氏)
「ナノインプリントを用いた光学部材の研究開発」
第3講:16:35-17:35(日本板硝子株式会社:壹岐 氏)
「ガラス材料とナノインプリント技術の融合による微小光学素子への展開、及びオプトエレクトロニクスデバイスへの応用」
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【プログラム】
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1. 研究背景と技術の位置づけ
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1.1 微細構造による機能発現(光・ぬれ・表面機能)
1.2 ナノインプリント技術による光学部材の動向
1.3 従来技術の課題
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2. ナノインプリントと印刷技術の基礎
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2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 モールド作製方法の例
2.3 各種印刷技術とその特徴
2.4 印刷技術の課題
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3. ナノ印刷プロセスの開発
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3.1 ナノインプリント技術と印刷技術を融合したナノ印刷プロセスの開発
3.2 プロセス設計のポイント
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4. ナノインプリントを基盤とした光学部材の研究開発
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4.1 微細配線から光学応用への展開
4.2 ワイヤーグリッド偏光素子の原理と用途
4.3 ナノ印刷による偏光シート
4.4 無電解めっきによる偏光シート
4.5 三角波状ナノ構造偏光シート
4.6 特殊ナノ構造による調光ブラインド
4.7 その他応用例
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5. まとめ & 質疑応答
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16:35-17:35
第3講
講 師
日本板硝子株式会社 クリエイティブテクノロジー事業部門 事業開発統括部 デジタルソリューションプロジェクト部 壹岐 耕一郎 氏
【講演主旨】
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第1講:13:00-15:00(芝浦機械株式会社:小久保 氏)
「ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例」
第2講:15:10-16:25(産総研:穂苅 氏)
「ナノインプリントを用いた光学部材の研究開発」
第3講:16:35-17:35(日本板硝子株式会社:壹岐 氏)
「ガラス材料とナノインプリント技術の融合による微小光学素子への展開、及びオプトエレクトロニクスデバイスへの応用」
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【プログラム】
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1. 日本板硝子株式会社の紹介
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1.1 全社事業紹介
1.2 クリエイティブテクノロジー事業、技術の紹介
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2. マイクロ光学素子プロジェクト
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2.1 マイクロ光学素子『miGIO®』の概要
2.2 インプリント製法
2.3 開発品紹介(拡散素子、DOE、回折素子、ウェハレベルレンズなど)
2.4 期待用途例の紹介
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3. 低誘電フレークプロジェクト
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3.1 低誘電ガラスフレーク『HIENCYFLAKE®』の概要
3.2 ガラスフレークの特徴
3.3 期待用途例の紹介
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4. オプトエレクトロニクスデバイスへの応用
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4.1 半導体パッケージへの展開
| セミナー番号 | S2606510 |
|---|---|
| セミナー名 | ナノインプリントと光学微細構造 |
| 講師名 |
第1部 芝浦機械株式会社 常務執行役員 R&Dセンター センター長 小久保 光典 氏 第2部 国立研究開発法人産業技術総合研究所 製造基盤技術研究部門 表面機能・トライボロジー研究グループ 穂苅 遼平 氏 第3部 日本板硝子株式会社 クリエイティブテクノロジー事業部門 事業開発統括部 デジタルソリューションプロジェクト部 壹岐 耕一郎 氏 |
| 開催日時 | 2026年06月19日(金) 13:00〜17:35 |
| 会場 | ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です |
| 受講料 | ●1名様 :55,000円(税込、資料作成費用を含む) |
| 定員 | 1名 |
| 備考 | 定員:30名 ※ お申し込み後、受講票と請求書のURLが自動で返信されます。基本的にはこちらで受付完了です。開催前日16:00までに再度最終のご連絡をいたします。請求書と受講票は郵送ではないため必ずダウンロードください。また、同時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ずご確認ください。 ※ セミナー前日夕方16:00までにWEB会議のURL、事前配布資料のパスワードについて、別途メールでご案内いたします。基本的にはマイページからのダウンロードの流れとなります。なお、事前配布資料については、講師側の作成完了次第のお知らせになりますので、この点、ご理解のほどお願い申し上げます。 ※ 請求書の宛名の「株式会社」や「(株)」の「会社名の表記」は、お客様の入力通りになりますので、ご希望の表記で入力をお願いします。 ※ お支払いは銀行振込、クレジット決済も可能です。銀行振込でお支払いの場合、開催月の翌月末までにお支払いください。お支払いの際は、社名の前に請求書番号をご入力ください。 ※ 領収書のご要望があれば、お申込み時、領収書要にチェックを入れてください。 ※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、受講票と請求書を代表者様にご連絡します。 ※ 当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき16,500円で追加申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は16,500円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取りまとめいただくか、申込時期が異なる場合は紹介者様のお名前を備考欄にお書きくださいますようお願いいたします。 ※ なお、ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。 |