【講演主旨】

【予定】
第１回　09月19日(火)　13:30-16:30（見逃し配信用アーカイブがございます）
第２回　10月16日(月)　13:30-16:30（見逃し配信用アーカイブがございます）
第３回　11月13日(月)　13:30-16:30​

【プログラム】

【第1回】ArFおよびArF液浸露光技術の概要と実際
（日時：09月19日(火)　13:30-16:30 、学習時間：3時間）

1．ArFリソグラフィー技術（アクリル系レジスト）の概要と評価
　1.1　ArFリソグラフィーの基礎
　1.2　アクリル系レジスﾄの概要
　1.3　ArFレジストの評価（１）現像中の膨潤の評価
　1.4　ArFレジストの評価（２）PAGから発生する酸の拡散長の評価
2．ArF液浸リソグラフィーの基礎
　2.1　ArF液浸レジストの評価（１）液浸液のレジスト膜中への浸透の評価
　2.2　ArF液浸レジストの評価（２）PAGから発生する酸のリーチングの評価
　2.3　ArF液浸レジストの評価（３）リソグラフィー・シミュレーションによる検討

【演習・質疑応答】

【第2回】ナノインプリント技術の概要と実際
（日時：10月16日(月)　13:30-16:30、学習時間：3時間）

1．ナノインプリントリソグラフィー（NIL)技術の概要
　1.1 プロセス評価用ナノインプリント装置
　1.2実験用熱・光対応ナノインプリント装置    
　1.3 実験用熱インプリント装置
　1.4 実験用ロールTOロールナノインプリント装置
　1.5 実験用　卓上インプリント装置
　1.6 ナノインプリント用アライメント装置
2．ナノインプリント法によるモスアイ構造製作のための評価装置の開発
3．ナノインプリント材料の硬化特性測定装置の開発
4．原子状Hによるモールドのクリーニング技術
5．ナノインプリント技術のバイオミメティクスへの応用(新展開）

【演習・質疑応答】

【第3回】EUV露光技術の概要と実際
（日時：11月13日(月)　13:30-16:30、学習時間：3時間）

1．    EUVリソグラフィーの概要と評価
　1.1　EUVLの概要
　1.2　EUVL用レジスト
2．アウトガス評価技術
　2.1　EUVLレジストのアウトガス評価方法
　2.2　EUVLレジストのアウトガス評価装置
3．EUVレジストの評価技術
　3.1　EUV透過率測定
　3.2　ナノパーティクル添加レジストの高感度化
　3.3　金属付与PAGによる高感度化の検討
　3.4　屈折率nk測定
　3.5　EUV2光束干渉露光
4．EUVメタルレジストの評価技術
　4.1　メタルレジストの概要
　4.2  EUVメタルレジストのアウトガス分析
　4.3　EUVメタルレジストの問題点
5．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度

６．SPIEでの最新EUV情報のご紹介　    　　　
    
【演習・質疑応答】