ArFリソグラフィ～EUVリソグラフィ・ナノインプリントによる半導体微細加工入門【3か月連続・オンライン学習講座】
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■本セミナーの主題および状況
→EUVリソグラフィは、微細なパターンを半導体ウェハーやその他の素材に転写するために使用される高度な微細加工技術の一種であり、極端紫外線（EUV）を利用して光学パターンを作成し、半導体チップなどの微細な構造を形成するためのプロセスであります。この技術は半導体産業において次世代プロセスノード（微細化）の実現に向けて大きな期待を集めております。
→ナノインプリントは、微細なパターンを作成するための微細加工技術の一種であり、材料を硬いスタンプ（マスター）に押し付けることによって、パターンを複製するプロセスであります。
■注目ポイント
★ArFレジストの概要、ArF液浸レジストの概要、およびプロセス評価技術につて解説！
★ナノインプリント・リソグラフィの概要、インプリント用レジスト材料、および評価技術について解説！
★今、最も注目を集めているEUVメタりレジストについて詳しく解説し、今年の２月にアメリカ・San Joseで開催されたマイクロリソグラフィの国際学会（SPIE）での最新情報もご紹介！
- リソテックジャパン株式会社／大阪公立大学 ナノサイエンス研究所 所長 博士（工学）／大学院工学研究科 客員教授 関口 淳 氏
・1口(1-2名まで受講可能)55,000円(消費税・資料代込)
お申込み人数は”１”を選択
・1口(3名まで受講可能) 82,500円 (消費税・資料代込)
お申込み人数は”複数”を選択
※同一法人4名以上は1人あたり27,500円(消費税・資料代込)で金額追加で受講可
※ お申し込み後、受講票と請求書のURLが自動で返信されます。郵送ではないため必ずダウンロードください。また、同時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ずご確認ください。
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※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、受講票と請求書を代表者様にご連絡します。
※ なお、ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。
※オンライン学習で使用する資料（PDF電子データ）として事前に受講者へご連絡いたします。お手数をおかけしますが、プリントアウトしていただき、ご準備ください。
※原則、紙媒体でのテキスト提供は対応しておりません。
※同一法人で15名以上の参加をお考えの企業様はWEB研修サービス(有料・カスタマイズ研修)も行っております。
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【全体スケジュール】
【予定】
第１回 09月19日(火) 13:30-16:30（見逃し配信用アーカイブがございます）
第２回 10月16日(月) 13:30-16:30（見逃し配信用アーカイブがございます）
第３回 11月13日(月) 13:30-16:30
【時間】 13:30-16:30
【講師】リソテックジャパン株式会社／大阪公立大学 ナノサイエンス研究所 所長 博士（工学）／大学院工学研究科 客員教授 関口 淳 氏
【講演主旨】
【第1回】 ArFおよびArF液浸露光技術の概要と実際
「ArFリソグラフィ～EUVリソグラフィ・ナノインプリントによる半導体微細加工入門」のタイトルで、先端リソグラフィ技術について、３回にわたって解説いたします。第１講義は、「ArFおよびArF液浸露光技術の概要と実際」です。ArFレジストの概要、ArF液浸レジストの概要、およびプロセス評価技術につて解説します。
【第2回】 ナノインプリント技術の概要と実際
第２講義は、ナノインプリント・リソグラフィについてです。ナノインプリント・リソグラフィの概要、インプリント用レジスト材料、および評価技術について解説します。また、サーマルインプリント、UVインプリントの概要を示し、インプリント材料の評価方法、モールドの洗浄技術、将来的なアプリケーションについても解説します。
【第3回】 EUV露光技術の概要と実際
第３講義は、現在、最も注目される最先端技術であるEUVリソグラフィについての講義です。EUVリソグラフィの概要、EUV用レジスト材料、および評価技術について解説します。また、特に、今、最も注目を集めているEUVメタりレジストについて詳しく解説します。さらに、今年の２月にアメリカ・San Joseで開催されたマイクロリソグラフィの国際学会（SPIE）での最新情報もご紹介します。
【プログラム】
【第1回】ArFおよびArF液浸露光技術の概要と実際
（日時：09月19日(火) 13:30-16:30 、学習時間：3時間）
1．ArFリソグラフィー技術（アクリル系レジスト）の概要と評価
1.1 ArFリソグラフィーの基礎
1.2 アクリル系レジスﾄの概要
1.3 ArFレジストの評価（１）現像中の膨潤の評価
1.4 ArFレジストの評価（２）PAGから発生する酸の拡散長の評価
2．ArF液浸リソグラフィーの基礎
2.1 ArF液浸レジストの評価（１）液浸液のレジスト膜中への浸透の評価
2.2 ArF液浸レジストの評価（２）PAGから発生する酸のリーチングの評価
2.3 ArF液浸レジストの評価（３）リソグラフィー・シミュレーションによる検討
【演習・質疑応答】
【第2回】ナノインプリント技術の概要と実際
（日時：10月16日(月) 13:30-16:30、学習時間：3時間）
1．ナノインプリントリソグラフィー（NIL)技術の概要
1.1 プロセス評価用ナノインプリント装置
1.2実験用熱・光対応ナノインプリント装置
1.3 実験用熱インプリント装置
1.4 実験用ロールTOロールナノインプリント装置
1.5 実験用 卓上インプリント装置
1.6 ナノインプリント用アライメント装置
2．ナノインプリント法によるモスアイ構造製作のための評価装置の開発
3．ナノインプリント材料の硬化特性測定装置の開発
4．原子状Hによるモールドのクリーニング技術
5．ナノインプリント技術のバイオミメティクスへの応用(新展開）
【演習・質疑応答】
【第3回】EUV露光技術の概要と実際
（日時：11月13日(月) 13:30-16:30、学習時間：3時間）
1． EUVリソグラフィーの概要と評価
1.1 EUVLの概要
1.2 EUVL用レジスト
2．アウトガス評価技術
2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法
2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置
3．EUVレジストの評価技術
3.1 EUV透過率測定
3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化
3.3 金属付与PAGによる高感度化の検討
3.4 屈折率nk測定
3.5 EUV2光束干渉露光
4．EUVメタルレジストの評価技術
4.1 メタルレジストの概要
4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析
4.3 EUVメタルレジストの問題点
5．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
６．SPIEでの最新EUV情報のご紹介
【演習・質疑応答】