【 LIVE配信・WEBセミナー】

ナノインプリント成形プロセスと光学デバイス適用に向けた装置・モールド・樹脂材料の開発

★2024年9月10日WEBオンライン開講。【①山形大学・伊藤氏】【②芝浦機械株式会社・小久保氏】【③三菱ガス化学株式会社・田中氏】専門家3名がナノインプリントのプロセス、装置、光学部材への適用と材料開発について解説する講座です。

■本講座の注目ポイント
 ①熱式・UVナノインプリントのプロセスから転写技術の構造について解説します!
 ②微細転写装置によるフィルム・透明・マイクロレンズアレイモールド製作を紹介します!
 ②「LEDの高輝度化」「ウエハレベルレンズ」「大面積サイズのワイヤーグリッド偏光子」の事例を示します!
 ③「UV向け高屈折率硬化性樹脂」の材料特性と要求事項について解説します!
セミナー番号
S240952
セミナー名
ナノインプリント
講師名
  • 第1部  山形大学大学院  有機材料システム研究科 教授  伊藤 浩志 氏
  • 第2部  芝浦機械株式会社  常務執行役員 R&Dセンター センター長  小久保 光典 氏
  • 第3部  三菱ガス化学株式会社  東京研究所・主任研究員  田中 博康 氏
開催日
2024年09月10日(火) 13:00-17:30
会場名
※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です
受講料(税込)

●1名様  :49,500円(税込、資料作成費用を含む)
●2名様以上:16,500円(お一人につき)
 ※受講料の振り込みは、開催翌月の月末までで問題ありません

詳細

定員:30名

※ お申し込み後、受講票と請求書のURLが自動で返信されます。基本的にはこちらで受付完了です。開催前日16:00までに再度最終のご連絡をいたします。請求書と受講票は郵送ではないため必ずダウンロードください。また、同時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ずご確認ください。

※ セミナー前日夕方16:00までにWEB会議のURL、事前配布資料のパスワードについて、別途メールでご案内いたします。基本的にはマイページからのダウンロードの流れとなります。なお、事前配布資料については、講師側の作成完了次第のお知らせになりますので、この点、ご理解のほどお願い申し上げます。


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※ お支払いは銀行振込、クレジット決済も可能です。銀行振込でお支払いの場合、開催月の翌月末までにお支払いください。お支払いの際は、社名の前に請求書番号をご入力ください。

※ 領収書のご要望があれば、お申込み時、領収書要にチェックを入れてください。

※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、受講票と請求書を代表者様にご連絡します。

※ 当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき16,500円で追加申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は16,500円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取りまとめいただくか、申込時期が異なる場合は紹介者様のお名前を備考欄にお書きくださいますようお願いいたします。

※ なお、ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。


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【本セミナーの主題および状況・本講座の注目ポイント】

≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫



【第1講】 熱式およびUV式ナノインプリントプロセスによる微細構造転写の基礎・その形成機構

【時間】 13:00-14:15

【講師】山形大学大学院 有機材料システム研究科 教授 伊藤 浩志 氏

【講演主旨】

 ナノインプリンによる微細構造の表面転写は、熱式による加熱・加圧方式や紫外線硬化樹脂の塗布とその紫外線樹脂を微細構造とするポリマーの精密転写成形である。各方式では、熱による粘弾性の制御や紫外線による架橋度の制御が重要である。求められる精度や品質のハードルは高く、ポリマーの塗布技術、加圧による変形、金型との離型など、さまざまな課題を抱えています。
 本講演では今後も発展を続けるナノインプリント技術の需要に対して、主に加工プロセスによる微細構造の形成に注目し、熱可塑性ポリマーや紫外線硬化材料となるポリマーの特性、加工技術、その形態の賦形の基礎について解説します。

【講演のポイント】
 ポリマー特性と微細構造の転写について、その基礎と機構について平易に解析します。そのうえで、微細構造と光学デバイスや防汚特性などへの応用展開やプロセス・材料設計などの最新の動向について紹介します。

【習得できる知識】
 ①ポリマーの基礎とインプリント加工性の基礎
 ②熱式インプリントの加工条件と微細転写性の関係
 ③紫外線インプリントの加工条件と転写性の関係

【講演キーワード】
 熱式インプリント、紫外線硬化式インプリント、ロールツーロール式転写技術、構造形成、表面特性


【プログラム】

1.はじめに
 1-1 ポリマーの基礎(特性と高次構造)
 1-2 ポリマーの成形加工(インプリント、ロール、射出成形 他)
 1-3 成形加工における高次構造と物性

2.熱式インプリントによる微細構造
 2-1 バッチ式プロセスによる表面微細構造
 2-2 ロールツーロール式による連続微細転写成形

3.UV式インプリントによる微細構造
 3-1 ロールツーロール式による連続微細転写成形

4.微細構造による機能化(光学、防汚性)
 4-1 ナノ構造の転写性と機能化
 4-2 最新の研究動向
【質疑応答】


【第2講】 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例

【時間】 14:25-16:05

【講師】芝浦機械株式会社 常務執行役員 R&Dセンター センター長 小久保 光典 氏

【講演主旨】

 低コスト微細構造形成技術である、ナノインプリント成形技術の概要について紹介するとともに超精密加工機による金型加工にも触れます。
 ナノインプリント装置に関しては直押し方式の微細転写装置に加え、大面積化・高スループット化へのアプローチとして注目されている「Roll to Roll方式」の装置開発状況について説明し、デバイスへの適用例として、LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズ、大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWGP (ワイヤーグリッド偏光子) について解説します。

【講演のポイント】
 「講演主旨」参照ですが,LEDの高輝度化,ウエハレベルレンズの製作,大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWire Grid Polarizer (ワイヤーグリッド偏光子)といった実際のデバイスに適用した発表事例は非常に少ないと思います。

【習得できる知識】
 ①ナノインプリント手法・デバイス作成における問題点・注意点・判断基準
 ②ナノインプリント装置の設計と評価

【講演キーワード】
 ナノインプリント、LED、深紫外LED、ウエハレベルレンズ、WLL、ワイヤーグリッド偏光子、Wire Grid Polarizer、大面積インプリント。Roll to Roll、Roll to Sheet、Roll to Plate


【プログラム】

1.芝浦機械株式会社の紹介

2.ナノインプリントプロセス
 2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
 2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
 2.3 ナノインプリント装置構成と特徴

3.ナノインプリント装置と転写事例の紹介
 3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
 3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series

4.ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
 4.1 LED
  4.1.1 プロセス説明
  4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
  4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置  ST50S-LED
 4.2 WLL(Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ)
  4.2.1 プロセス説明
  4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作
  4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
 4.3 ワイヤーグリッド偏光子(大面積転写)
  4.3.1 プロセス説明
  4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積(G2(370×470mm))サイズのWGP作製(残膜(RLT:Residual Layer Thickness)目標50nm以下への挑戦
  4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP

5.装置開発の課題と今後の展望



【第3講】 光学系硬化用樹脂の開発動向とナノインプリント材料への応用

【時間】 16:15-17:30

【講師】三菱ガス化学株式会社 東京研究所・主任研究員 田中 博康 氏

【講演主旨】

 光学デバイスの小型高機能化やメタバースの進展により光学系硬化用樹脂への期待が高まりを見せ、とりわけ、ナノインプリント技術の展開が期待されています。
 本講座では、高屈折率硬化性樹脂『LumipluS』のナノインプリントプロセスへの適用例をもとに、インプリント材料に求められる材料特性、離形・欠陥制御などのナノインプリントプロセスにおける要求事項を解説します。また、回折素子、XRデバイスなどの事例をもとに、今後のインプリントプロセスの展望についても解説します。

【講演のポイント】
 光学樹脂材料の市場から求められるナノインプリント技術について、高屈折率硬化性樹脂『LumipluS』の事例を通して解説します。
 また今後ナノインプリントの応用が期待される光学デバイスについて解説します。

【習得できる知識】
 ①光学デバイスに使用される樹脂材料について
 ②硬化性材料の光学デバイスへの適用について
 ③ナノインプリントに用いられているポリマーとそれに対する要求特性について
 ④ナノインプリントプロセスにおける要求事項について
 ⑤ナノインプリントプロセスの応用が期待されるデバイス作製について

【講演キーワード】
 UV硬化、高屈折率、回折素子、XR向け素材、メタサーフェス


【プログラム】

1.光学デバイスへの樹脂材料の展開
 1.1 光学デバイスに使用される樹脂材料
 1.2 三菱ガス化学の光学材料開発
 1.3 光学デバイスへの硬化性樹脂の展開

2.ナノインプリントプロセス
 2.1 ナノインプリントプロセスの特徴
 2.2 ナノインプリント技術の展開
 2.3 インプリント成形に求められる材料特性
 2.4 微細構造賦形のための転写技術

3.光学デバイスにおけるナノインプリント技術の将来展望
 3.1 回折素子への応用
 3.2 XR向けインプリント材料
 3.3 メタサーフェスの展開


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