【講演主旨】

■本セミナーの主題および状況

★これまでのレジスト材料における微細化・高解像度化技術・材料開発の変遷を時系列的にまとめ、今後の効率的な技術開発の応用への指針を示し、あわせてPFASフリーの環境対応、PFAS代替品を用いた材料開発、プロセス立ち上げのポイント、日本の今後の半導体関連産業の在り方についても考察する。

■注目ポイント

★レジスト・リソグラフィ技術の基礎と技術開発の必然性、マイクロエレクトロニクスの高密度化、高速化、低コスト化に伴うリソグラフィ技術の微細化・レジストの高解像度化などの高品位化の歴史的変遷およびイノベーションの創出過程について学習、習得できる！

★技術・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、次世代リソグラフィ技術、PFASフリー等の効率的な技術開発への応用が可能となる！

★事業課題を設定、事業計画の策定・推進、その他、新規事業の立ち上げや海外進出の推進、他社との資本・業務提携・アライアンスなどに関する企画立案などについて学習、習得できる！

★社会における半導体の位置づけ、日本の半導体産業の現状と課題を理解し、今後の展望について学習、習得できる！

★PFASの知識とその特性について学習、習得できる！

★PFAS規制と今後の動向について学習、習得できる！

★PFAS代替品を用いた材料開発、プロセス立ち上げのポイントについて学習、習得できる！

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【プログラム】

１．技術パラダイムシフトと半導体集積回路
　1.1　科学技術の発展
　1.2　技術パラダイムシフト
　1.3　マイクロエレクトロニクス(ME)と社会～AI技術の展開～
　1.4　ＭＥの黎明期とフォトレジスト

２．フォトレジストの本流２．フォトレジストの本流
　2.1　ゴム系ネガ型フォトレジスト
　　(1)　リソグラフィプロセスの確立
　　(2)　基本的構造及び製造法
　2.2　ノボラック系ポジ型レジスト
　　(1)　基本的組成
　　(2)　マトリックス樹脂製法、感光性化合物
　　(3)　レジストの透明性と解像度
　　(4)　i-線レジスト
　　(5)　リソグラフィプロセスでの化学と工程管理
　　(6)　レジストの溶剤と環境への影響
　　(7)　高性能化への工夫と新たなイノベーション

３．フォトレジストの裏街道
　3.1　Ｘ線レジスト
　3.2　Top Surface Imaging：DESIRE
　3.3　Deep UVリソグラフィ
　　(1)　黎明期のレジスト
　　(2)　化学増幅型レジスト
　　(3)　光酸発生剤

４．エキシマレーザリソグラフィ
　4.1　KrFレジスト
　　(1)　エキシマレーザリソグラフィ実現への課題
　　(2)　光源・光学系の課題
　　(3)　化学増幅型レジストの課題
　　(4)　材料からの改良
　　(5)　プロセス面からの改良
　　(6)　実用化されたレジスト材料
　4.2　ArFレジスト
　　(1)　ArFレジスト実現への課題
　4.3　液浸リソグラフィ

５．EUVリソグラフィ
　5.1 　光源・露光機の開発
　5.2 　 レジスト開発
　　　　開発現状と課題／LERの要因と対応
　5.3  　無機レジスト
　　　　感度・解像度／保存安定性
　5.4 　 EUVLの課題
　　　　光源／露光装置／マスク／レジスト／評価装置

６．今後の展望
　6.1 　高解像度化と現像プロセス
　　　　現像過程での膨潤と解像度
　6.2 　今後のパターン形成プロセス
　6.3 　ナノインプリント技術の実用化

７．科学技術と社会(半導体と人間)
　7.1　AI
　7.2　ブレインマシンインターフェイス(BMI)
　7.3　科学技術と社会(地球規模の課題と科学技術/半導体)

８．国の安全保障の根幹を担う半導体産業
　8.1 　半導体産業の重要性
　8.2 　日本および世界の半導体産業の現状
　8.3　 経産省の戦略
　8.4 　再生のための論点

９．効率的にイノベーションを創出するために
　知的財産戦略とMOT

１０．まとめ

質疑応答

【キーワード】

フォトポリマー、先端レジスト,先端リソグラフィ,微細加工,半導体デバイス,エキシマレーザ、Krf、ArF、EUV、化学増幅型レジスト、無機レジスト,ドライ現像、ナノインプリント、PFASフリー、半導体産業復活、イノベーション

【講演者の最大のPRポイント】

講演者はフォトリソグラフィの確立期からレジスト材料の研究開発に携わり、先端レジストの研究開発からマーケティング、事業化・産業化まで担当してきた。同時に現在に至るまで学会活動(フォトポリマー懇話会等)等を通して、学会・業界の情報に精通しており、レジスト材料を含め、リソグラフィ技術全般および半導体産業の現状と将来について解説できる。

【習得できる知識】

1.   レジスト・リソグラフィ技術の基礎と技術開発の必然性、マイクロエレクトロニクスの高密度化、高速化、低コスト化に伴うリソグラフィ技術の微細化・レジストの高解像度化などの高品位化の歴史的変遷およびイノベーションの創出過程を知ることができる。
2.   技術・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、次世代リソグラフィ技術、PFASフリー等の効率的な技術開発への応用が可能となる。
3.   事業課題を設定、事業計画の策定・推進、その他、新規事業の立ち上げや海外進出の推進、他社との資本・業務提携・アライアンスなどに関する企画立案などの参考になる。
4.   社会における半導体の位置づけ、日本の半導体産業の現状と課題を理解し、今後の展望を考えることができる。

【講演主旨】

■本セミナーの主題および状況

★これまでのレジスト材料における微細化・高解像度化技術・材料開発の変遷を時系列的にまとめ、今後の効率的な技術開発の応用への指針を示し、あわせてPFASフリーの環境対応、PFAS代替品を用いた材料開発、プロセス立ち上げのポイント、日本の今後の半導体関連産業の在り方についても考察する。

■注目ポイント

★レジスト・リソグラフィ技術の基礎と技術開発の必然性、マイクロエレクトロニクスの高密度化、高速化、低コスト化に伴うリソグラフィ技術の微細化・レジストの高解像度化などの高品位化の歴史的変遷およびイノベーションの創出過程について学習、習得できる！

★技術・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、次世代リソグラフィ技術、PFASフリー等の効率的な技術開発への応用が可能となる！

★事業課題を設定、事業計画の策定・推進、その他、新規事業の立ち上げや海外進出の推進、他社との資本・業務提携・アライアンスなどに関する企画立案などについて学習、習得できる！

★社会における半導体の位置づけ、日本の半導体産業の現状と課題を理解し、今後の展望について学習、習得できる！

★PFASの知識とその特性について学習、習得できる！

★PFAS規制と今後の動向について学習、習得できる！

★PFAS代替品を用いた材料開発、プロセス立ち上げのポイントについて学習、習得できる！

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【プログラム】

１．What’s PFAS?

２．World trend of PFAS control.

３．Why we use PFAS materials for semiconductor?

４．What’s Lithography materials?

５．How can we substitute PFAS?

【キーワード】

PFAS、regulation、Semiconductor、Lithography

【講演者の最大のPRポイント】

化学メーカーでの幅広い組成開発の経験やプロモーションの経験がある一方で、装置メーカーでのプロセスエンジニアとしての経験からレジストプロセスにも長けています。
PFAS freeを達成する上で必要な材料開発及びプロセス開発両方の知識を携えている数少ない貴重なエンジニアと自負しています。

【習得できる知識】

PFASの知識とその特性
PFAS規制と今後の動向
PFAS代替品を用いた材料開発、プロセス立ち上げのポイント