EUVレジスト、EUVメタルレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向
★2025年9月17日WEBでオンライン開講。Eリソリサーチ 遠藤氏が、【EUVレジスト、EUVメタルレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向】について解説する講座です。
■注目ポイント
★EUVレジスト、EUVメタルレジストについて基礎から要求特性、課題と対策、最新技術動向および最新のロードマップにおける位置づけとビジネス動向を解説！
- Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏
【1名の場合】49,500円(税込、テキスト費用を含む)
2名以上は一人につき、16,500円が加算されます。
定員：30名
※ お申し込み後、受講票と請求書のURLが自動で返信されます。基本的にはこちらで受付完了です。開催前日16：00までに再度最終のご連絡をいたしますので、しばらくお待ちください。請求書と受講票は郵送ではないため必ずダウンロードください。また、同時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ずご確認ください。
※ セミナー前日夕方16：00までにWEB会議のURL、事前配布資料のパスワードについては、別途メールでご案内いたします。基本的には、事前配布資料はマイページからのダウンロードの流れとなります。なお、事前配布資料については、講師側の作成完了次第のお知らせになりますので、この点、ご理解のほどお願い申し上げます。
※ 請求書の宛名の「株式会社」や「(株)」の「会社名の表記」は、お客様の入力通りになりますので、ご希望の表記で入力をお願いします。
※ お支払いは銀行振込、クレジット決済も可能です。銀行振込でお支払いの場合、開催月の翌月末までにお支払いください。お支払いの際は、社名の前に請求書番号をご入力ください。
※ 領収書のご要望があれば、お申込み時、領収書要にチェックを入れてください。
※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、受講票と請求書を代表者様にご連絡します。
※ 当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき16,500円で追加申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は16,500円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取りまとめいただくか、申込時期が異なる場合は紹介者様のお名前を備考欄にお書きくださいますようお願いいたします。
※ なお、ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。
【本セミナーの主題および状況・本講座の注目ポイント】
■本セミナーの主題および状況（講師より）
★メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっています。
★微細加工を支えるリソグラフィ技術は現在最先端の3nmノードの量産工程でEUVが用いられており、今年度の2nmノード以降その役割は益々増大します。
★EUVレジストはこのようなEUVリソグラフィ技術の変革に対応して進展し続けています。
■注目ポイント
★EUVレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向を解説！
★注目されているEUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセスについても詳しく解説！
★今後のEUVレジストの技術展望、市場動向とは！？
講座担当：牛田孝平
≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫
【時間】 10:30-16:30
【講師】Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏
【講演主旨】
メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。微細加工を支えるリソグラフィ技術は現在最先端の3nmノードの量産工程でEUVが用いられており、今年度の2nmノード以降その役割は益々増大する。EUVレジストはこのようなEUVリソグラフィ技術の変革に対応して進展し続けている。
本講演では、最新のロードマップとEUVリソグラフィの概要を紹介した後、EUVレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向を解説する。注目されているEUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセスについても詳しく述べる。最後に今後のEUVレジストの技術展望、市場動向についてまとめる。
【プログラム】
1.ロードマップ
1.1リソグラフィ技術、レジスト材料への要求特性
1.2微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
1.3最先端デバイスの動向
2.EUVリソグラフィの概要
2.1露光装置
2.2光源
2.3マスク
3.EUVレジストの基礎
3.1EUVレジストの設計指針
3.2化学増幅型EUVレジストの反応機構
3.3EUVレジストプロセス
4.EUVレジストの要求特性
4.1化学増幅型EUVレジスト用ポリマー
4.2化学増幅型EUVレジスト用酸発生剤・クエンチャー
5.EUVレジストの課題と対策
5.1感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
5.2ランダム欠陥（Stochastic Effects）
5.3EUVレジストの開発動向
5.3.1ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
5.3.2ネガレジストプロセス
6. EUVメタルレジスト
6.1 EUVメタルレジスト用材料
6.2 EUVメタルレジストの反応機構
6.3 EUVメタルレジストの性能と開発動向
7.EUVメタルドライレジストプロセス
7.1EUVメタルドライレジストプロセス用材料
7.2EUVメタルドライレジストプロセスの反応機構
7.3EUVメタルドライレジストプロセスの性能と開発動向
8. EUVレジストの技術展望、市場動向
【質疑応答】
【キーワード】
リソグラフィ、レジスト、EUVリソグラフィ、EUVレジスト、EUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセス、ロードマップ
【講演のポイント】
EUVレジスト、EUVメタルレジストについて、基礎から要求特性、課題と対策、最新技術動向まで把握できます。最新のロードマップにおける位置づけ、ビジネス動向を確認できます。
【習得できる知識】
１）EUVレジスト、EUVメタルレジストの基礎
２）EUVレジスト、EUVメタルレジストの要求特性、課題と対策
３）EUVレジスト、EUVメタルレジストの最新技術動向
４）EUVレジスト、EUVメタルレジストのビジネス動向