酸化ガリウムを活用した次世代パワーデバイスの開発動向と量産化に向けた取り組みおよび結晶多形制御
★2026年1月26日WEBでオンライン開講。京都大学 藤田氏、物質・材料研究機構 原田氏、京都工芸繊維大学 西中氏、株式会社ノベルクリスタルテクノロジー 佐々木氏が、【酸化ガリウムを活用した次世代パワーデバイスの開発動向と量産化に向けた取り組みおよび結晶多形制御】について解説する講座です。
■注目ポイント
★酸化ガリウムの基礎物性にはじまりAu並みの導電性を持つ酸化物薄膜の開発と酸化ガリウムデバイスへの応用例、酸化ガリウムの結晶多形制御およびパワーデバイス開発への応用と将来展望について解説！
- 第1部 京都大学 成長戦略本部 / 研究員 (名誉教授) 藤田 静雄 氏
- 第2部 物質・材料研究機構 ナノアーキテクトニクス材料研究センター / 独立研究者 原田 尚之 氏
- 第3部 京都工芸繊維大学 電気電子工学系 西中 浩之 氏
- 第4部 株式会社ノベルクリスタルテクノロジー 取締役 佐々木 公平 氏
【1名の場合】60,500円(税込、テキスト費用を含む)
2名以上は一人につき、16,500円が加算されます。
定員：30名
※ お申し込み後、受講票と請求書のURLが自動で返信されます。基本的にはこちらで受付完了です。開催前日16：00までに再度最終のご連絡をいたしますので、しばらくお待ちください。請求書と受講票は郵送ではないため必ずダウンロードください。また、同時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ずご確認ください。
※ セミナー前日夕方16：00までにWEB会議のURL、事前配布資料のパスワードについては、別途メールでご案内いたします。基本的には、事前配布資料はマイページからのダウンロードの流れとなります。なお、事前配布資料については、講師側の作成完了次第のお知らせになりますので、この点、ご理解のほどお願い申し上げます。
※ 請求書の宛名の「株式会社」や「(株)」の「会社名の表記」は、お客様の入力通りになりますので、ご希望の表記で入力をお願いします。
※ お支払いは銀行振込、クレジット決済も可能です。銀行振込でお支払いの場合、開催月の翌月末までにお支払いください。お支払いの際は、社名の前に請求書番号をご入力ください。
※ 領収書のご要望があれば、お申込み時、領収書要にチェックを入れてください。
※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、受講票と請求書を代表者様にご連絡します。
※ 当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき16,500円で追加申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は16,500円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取りまとめいただくか、申込時期が異なる場合は紹介者様のお名前を備考欄にお書きくださいますようお願いいたします。
※ なお、ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。
【本セミナーの主題および状況・本講座の注目ポイント】
■本セミナーの主題および状況
★酸化ガリウムパワー半導体じはシリコン（Si）や、炭化ケイ素（SiC）、窒化ガリウム（GaN）よりも大きなバンドギャップを持ち、より高い電圧や電力に対応できる革新的な半導体材料です。
★β型酸化ガリウムは、その材料物性と品質の高さから、次世代のパワーデバイス半導体材料として世界中から注目されていおります。
■注目ポイント
★Au並みの導電性を持つ酸化物薄膜の開発および酸化ガリウムデバイスへの応用例を紹介！
★ワイドバンドギャップ半導体で注目されている酸化ガリウムの結晶多形制御について紹介！
★酸化ガリウムパワーデバイス開発のこれまでの流れと将来展望について解説！
講座担当：牛田孝平
≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫
【第1講】 酸化ガリウムの基礎物性とそのパワーデバイスデバイス応用への期待（仮題）
【時間】 10:30-11:45
【講師】京都大学 成長戦略本部 / 研究員 (名誉教授) 藤田 静雄 氏
【講演主旨】
【プログラム】
【第2講】 酸化物導電体の開発と酸化ガリウムへの応用
【時間】 12:45-14:00
【講師】物質・材料研究機構 ナノアーキテクトニクス材料研究センター / 独立研究者 原田 尚之 氏
【講演主旨】
半導体デバイスの性能は、配線や電極に用いる金属材料の特性に大きく左右されます。本講演では、最近開発した高導電性酸化物薄膜について紹介します。この薄膜は層状結晶構造を持ち、酸化物でありながら優れた導電性を示します。さらに、酸化ガリウムとの積層によるデバイス作製例を通して、物質科学に基づく新材料およびヘテロ構造開発について概観します。
【プログラム】
1. 酸化物導電体のご紹介
1.1 金属薄膜の用途
1.2 金属性デラフォサイト型酸化物
２．基礎物性
2.1 導電性
2.2 熱伝導性
2.3 表面分極と仕事関数
3. 可能性のある用途
3.1 微細配線
3.2 高仕事関数電極
4 酸化ガリウムへの応用
4.1 ヘテロ構造の作製
4.2 ショットキーダイオード
【質疑応答】
【キーワード】
エレクトロニクス、パワーデバイス、配線、電極、透明導電体、仕事関数
【講演のポイント】
Au並みの導電性を持つ酸化物薄膜を開発しました。厚さ約30nmで抵抗率約4μΩcm。高い安定性と耐熱性（800℃）、高い剥離強度を備えます。仕事関数は最大7.8eVで、1550nm近赤外光を良好に透過します。本講演では酸化ガリウムデバイスへの応用例を紹介します。
【習得できる知識】
・物質科学に基づいた新材料の開発
・ヘテロ構造開発の実際
・酸化物導電体
【第3講】 ミストCVDによる酸化ガリウムの結晶多形制御
【時間】 14:10-15:25
【講師】京都工芸繊維大学 電気電子工学系 西中 浩之 氏
【講演主旨】
本講演ではワイドバンドギャップ半導体で注目されている酸化ガリウムの結晶多形制御について紹介する。講演者が開発したミストCVD法を用いて、酸化ガリウムの5つの結晶多型の制御に成功している。デバイス応用に向けて、単相の結晶相を得ることは適切なデバイス動作に向けて重要な課題となっている。本講演では、酸化ガリウムの結晶多型制御に向けた検討例と、その進展について講演を行う。
【プログラム】
1. 酸化ガリウムの基礎物性
1.1 酸化ガリウムのデバイス構造からみた開発のポイント
1.2 酸化ガリウムの結晶多形
2. ミストCVD法
2.1 ミストCVD法の原理
3. ミストCVDによる結晶多形制御
3.1 β相でのミストCVDの適用例（混晶と不純物添加）
3.2 α相でのミストCVDの適用例（混晶と不純物添加）
3.3 κ相でのミストCVDの適用例（混晶と不純物添加）
3.3 γ相、δ相のミストCVDの適用例
4. まとめ
【質疑応答】
【キーワード】
ミストCVD 酸化ガリウム ワイドバンドギャップ半導体 結晶成長 パワー半導体
【講演のポイント】
講演者は5つの酸化ガリウムの結晶多形の制御に唯一成功している。ミストCVDを用いて様々な酸化物半導体を扱っており、その経験を活かした結晶成長制御技術について解説する。
【習得できる知識】
・酸化ガリウムの基礎知識
・酸化ガリウムの結晶多形
・ミストCVD
【第4講】 高耐圧酸化ガリウムパワーデバイス開発の進展
【時間】 15:35-16:50
【講師】株式会社ノベルクリスタルテクノロジー 取締役 佐々木 公平 氏
【講演主旨】
β型酸化ガリウムは、その材料物性と品質の高さから、次世代のパワーデバイス半導体材料として世界中から注目されている。我々の開発チームは2010年から酸化ガリウムの結晶成長技術開発とそのパワーデバイス応用に取り組んできた。これまでは日本初の技術として我々が世界を大きくリードしてきたが、ここ数年は中国と米国での開発の進展が著しい。本講座では、過去十数年の酸化ガリウム開発の歴史と現在の技術レベルを俯瞰し、今後の開発課題についてまとめたいと思う。
【プログラム】
・パワーデバイス材料としての酸化ガリウムの魅力
・酸化ガリウム単結晶基板開発の進展
・酸化ガリウムエピタキシャル成長技術開発の進展
・酸化ガリウムダイオード開発の進展
・酸化ガリウムトランジスタ開発の進展
【質疑応答】
【キーワード】
酸化ガリウム、半導体、結晶成長、パワーデバイス、ダイオード、トランジスタ、省エネルギー
【講演者のPRポイント】
講演者は、酸化ガリウム開発のトップランナーの一人として、その結晶成長技術開発からデバイス応用まで携わってきた。国内外の特許出願数は200件を超える。本講演では酸化ガリウムパワーデバイス開発のこれまでの流れと将来展望についてお伝えしたい。
【習得できる知識】
・パワーデバイス材料としての酸化ガリウムの魅力
・酸化ガリウムの結晶成長技術やパワーデバイス開発の、これまでの流れと将来展望
・当社が実施中の酸化ガリウム国家プロジェクトの進展状況