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半導体基板におけるめっき技術の基礎と材料技術・課題

開催日時 2024年2月28日(水) 13:00-16:50

受講料 1名44,000円(税込)より

セミナー内容

★2024年2月28日WEBオンライン開講。NPOサーキットネットワーク(元凸版印刷) 大久保氏、関西大学  新宮原先生、株式会社JCU 大野様の3名講師から半導体基板におけるめっき技術の基礎と材料技術・課題のテーマをもとに解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★回路導体や層間接続、および部品接合のための端子の表面処理に使用するめっき技術!

【今回の登壇者】

  • 第1講:NPOサーキットネットワーク:大久保 利一 氏「半導体実装基板におけるめっき技術の基礎」
  • 第2講:関西大学:新宮原 正三 氏「半導体パッケージにおける三次元微細配線の高性能めっき技術とメカニズム」
  • 第3講:株式会社JCU:大野 晃宜 氏「Advanced Package用硫酸銅めっきプロセスについて」

講師紹介

プログラム

13:00-14:15

1

半導体実装基板におけるめっき技術の基礎

講 師

NPOサーキットネットワーク 理事 事務局長 大久保 利一

【講演主旨】

■本セミナーの主題および状況

★回路導体や層間接続、および部品接合のための端子の表面処理に使用され、半導体パッケージの電極形成にも多数利用される「めっき技術」はますます重要になっています。


■本講座の注目ポイント

★代表的な半導体パッケージ基板と、そこで使われている各種めっき技術の基礎から、TSVなどの最先端めっき技術、最先端の硫酸銅めっきプロセスにおける薬液についても解説する。

★いかに高アスペクトであり、狭ピッチの対応ができるか?経験豊富なコンサルタントやアカデミアの先端研究社、めっき薬液メーカーの先端技術保持社など、それぞれの立場から半導体めっきプロセスをひも解く。


講座担当:青木良憲


≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫


【プログラム】

1.はじめに
 1-1  「めっき技術」の展望
 1-2 各種半導体実装基板等で用いられるめっき技術
2.主な半導体実装基板と製造プロセス
 2-1  FC-BGA
 2-2  シリコンインターポーザ 
 2-3 リードフレーム
3.導体形成のための各種めっきプロセス
 3-1  電解銅めっき
 3-2  無電解銅めっき
4.接合のための各種めっきプロセス
 4-1 接合のための表面処理の目的
 4-2 各種電解めっき (Ni/Auめっき、はんだめっき、Agめっき 他)
 4-3 各種無電解めっき  (Ni/Auめっき、置換Snめっき 他)
5. おわりに  これからは管理技術が一層重要に

14:30-15:45

2

半導体パッケージにおける三次元微細配線の高性能めっき技術とメカニズム

講 師

関西大学 システム理工学部機械工学科 教授 新宮原 正三

【講演主旨】

■本セミナーの主題および状況

★回路導体や層間接続、および部品接合のための端子の表面処理に使用され、半導体パッケージの電極形成にも多数利用される「めっき技術」はますます重要になっています。


■本講座の注目ポイント

★代表的な半導体パッケージ基板と、そこで使われている各種めっき技術の基礎から、TSVなどの最先端めっき技術、最先端の硫酸銅めっきプロセスにおける薬液についても解説する。

★いかに高アスペクトであり、狭ピッチの対応ができるか?経験豊富なコンサルタントやアカデミアの先端研究社、めっき薬液メーカーの先端技術保持社など、それぞれの立場から半導体めっきプロセスをひも解く。


講座担当:青木良憲


≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫


【プログラム】

1.めっき技術の基礎
 1-1 電解Cuめっき技術とは
 1-2 無電解めっき技術とは
2.無電解バリアメタルめっき技術
 2-1 無電解バリアメタル技術の経緯
 2-2 拡散バリア性評価技術
 2-3 薄膜密着性評価技術
 2-4 Co合金めっき技術
3.無電解Cuめっきによるボトムアップ堆積技術
 3-1 無電解Cuめっき浴の還元剤
 3-2 添加剤(抑制剤)の効果
 3-3 ボトムアップ堆積による形状制御
4. 電解Cuめっきによるボトムアップ堆積技術
 4-1 Cuめっき浴への各種添加剤の効果(抑制剤、促進剤)
 4-2 室温放置及び熱処理による結晶粒成長と添加剤
4-3 微細孔へのCuボトムアップ堆積
5.TSVへの無電解バリアメタル及びその上のダイレクトCu電解めっき技術

16:00-16:50

3

Advanced Package用硫酸銅めっきプロセスについて

講 師

株式会社JCU 総合研究所 執行役員 副所長兼電子技術開発部長 大野 晃宜

【講演主旨】

■本セミナーの主題および状況

★回路導体や層間接続、および部品接合のための端子の表面処理に使用され、半導体パッケージの電極形成にも多数利用される「めっき技術」はますます重要になっています。


■本講座の注目ポイント

★代表的な半導体パッケージ基板と、そこで使われている各種めっき技術の基礎から、TSVなどの最先端めっき技術、最先端の硫酸銅めっきプロセスにおける薬液についても解説する。

★いかに高アスペクトであり、狭ピッチの対応ができるか?経験豊富なコンサルタントやアカデミアの先端研究社、めっき薬液メーカーの先端技術保持社など、それぞれの立場から半導体めっきプロセスをひも解く。


講座担当:青木良憲


≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫


【プログラム】

1. Advanced Package技術の必要性

2.Advanced Package用硫酸銅めっき

 2-1 RDL用

 2-2 Mega(Tall) Pillar用

 2-3 TSV用

 2-4 Hybrid Bonding用

3.硫酸銅めっきの基礎

開催概要

セミナー番号 S240205
セミナー名 半導体めっき
講師名 第1部 NPOサーキットネットワーク 理事 事務局長 大久保 利一 氏
第2部 関西大学 システム理工学部機械工学科 教授 新宮原 正三 氏
第3部 株式会社JCU 総合研究所 執行役員 副所長兼電子技術開発部長 大野 晃宜 氏
開催日時 2024年02月28日(水) 13:00〜16:50
会場 ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です
受講料

【1名の場合】44,000円(税込、テキスト費用を含む)
2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。

定員 1名
備考

定員:30名

※ お申し込み後、受講票と請求書のURLが自動で返信されます。郵送ではないため必ずダウンロードください。また、同時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ずご確認ください。

※ 請求書の宛名の「株式会社」や「(株)」の「会社名の表記」は、お客様の入力通りになりますので、ご希望の表記で入力をお願いします。

※ お支払いは銀行振込、クレジット決済も可能です。銀行振込でお支払いの場合、開催月の翌月末までにお支払いください。お支払いの際は、社名の前に請求書番号をご入力ください。

※ 領収書のご要望があれば、お申込み時、領収書要にチェックを入れてください。

※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、受講票と請求書を代表者様にご連絡します。※ 当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき11,000円で追加申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は11,000円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取りまとめいただくか、申込時期が異なる場合は紹介者様のお名前を備考欄にお書きくださいますようお願いいたします。

※ なお、ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。



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