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≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫

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　第1講：11:00～12:15　「ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎と将来」
　第2講：13:00～14:00　「ナノインプリント装置と光学デバイスへの応用」
　第3講：14:15～15:30　「成長する半導体アプリケーションとナノインプリントへの期待」
　第4講：15:45～17:00　「最先端リソグラフィ用EUVレジストおよびナノインプリントレジストの展開」
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　ナノインプリントリソグラフィは、半導体の露光装置の代替え技術として1995年に開発された。
　この技術は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。しかし、従来の射出成型やホットエンボスなどとは違って、薄い樹脂層にパターンを転写するので、機械精度が必要となる。現在、ナノインプリントリソグラフィは半導体用リソグラフィへの適用が模索されており、今後リソグラフィだけではなく、安価にナノパターンを作る手法としても注目されている。
　本講義では、ナノインプリント技術の基礎や歴史から、様々な分野への応用を紹介し、将来展望もおこなう。

【習得できる知識】
　①ナノインプリントリソグラフィの基礎知識
　②ナノインプリントリソグラフィ技術の応用

【講演キーワード】
　ナノインプリントリソグラフィ、ナノ構造、三次元、曲面、ARグラス、MRグラス

【講演のポイント】
　講演者は、ナノインプリントの基本要素である金型作製、転写装置作製、転写品の評価を長年行ってきた。また、転写品の機能設計・開発、新規ナノインプリントプロセス開発など応用研究も長年行ってきた。

　先端微細加工技術で製造した金型で樹脂表面に光の波長サイズのパターンを形成するナノインプリント技術は、新しい光学デバイスの製造技術として近年、AR,VR用光導波路、３Dセンサー、メタレンズ、バイオセンサーなど広い分野で応用が広がっています。
　本演ではナノインプリント技術の成形、離型の基本から紹介し、そのごナノインプリントした樹脂表面による偏光、回折、位相制御などを利用した具体的光学デバイスの機能と産業上の応用について紹介します。

【習得できる知識】
　①ナノインプリント基礎技術
　②ナノフォトニクス光学デバイスの機能と製造技術

【講演キーワード】
　メタレンズ、メタサーフェス、ARグラス、位相差板、偏光子、３Dセンサー

　微細加工に必要なリソグラフィ技術、そのための材料であるフォトレジストは、長い歴史を経て、EUVリソグラフィの実現を迎えた。しかしながら、適用可能なデバイスメーカーおよび適用レイヤーが限られており、それは露光装置およびその運営コストの高さに一端がある。一方、ナノインプリントリソグラフィも微細加工リソグラフィとして長い間検討がなされるも困難な道のりを歩んできたが、EUVの適用困難性から、近年再び脚光をあびてきている。キヤノンの装置発表、富士フイルムの材料プレスリリースは記憶に新しい。微細加工リソグラフィとしてのEUVリソグラフィおよびナノインプリントリソグラフィに関し、時間の許す限り紹介する。

【講演キーワード】
　ナノインプリント、NIL、EUV、レジスト、リソグラフィ、微細化、ムーアの法則、ネガティブトーン現像、NTD

【講演のポイント】
　＜講演内容＞
　　リソグラフィの歴史における最先端リソグラフィレジストの代表としてのEUVレジストおよびナノインプリントレジストの材料開発を解説する。
　＜講演者＞
　　フォトレジスト材料開発、ナノインプリントレジスト材料開発、リソグラフィプロセス、国プロジェクト経験など、講演者はそれらの技術に直接従事もしくは議論・プロジェクト参加した経験があり具体的な課題・展望についての紹介が可能。