【講演主旨】

≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫

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　第1講：11:00～12:15　「ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎と将来」
　第2講：13:00～14:00　「ナノインプリント装置と光学デバイスへの応用」
　第3講：14:15～15:30　「成長する半導体アプリケーションとナノインプリントへの期待」
　第4講：15:45～17:00　「最先端リソグラフィ用EUVレジストおよびナノインプリントレジストの展開」
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【プログラム】

1．ナノインプリントリソグラフィの基礎
　1-1. ナノインプリントの歴史
　1-2. ナノインプリントの要素技術　
　1-3. ナノインプリントの各種方式
　1-4. ナノインプリントの位置づけ

2. ナノインプリントリソグラフィ技術
　2-1. 三次元化
　2-2. 金属パターン転写

3. 将来展望
　3-1. 曲面上への転写
　3-2. AR/MR グラス

4．まとめ
【質疑応答】

【講演主旨】

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　第1講：11:00～12:15　「ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎と将来」
　第2講：13:00～14:00　「ナノインプリント装置と光学デバイスへの応用」
　第3講：14:15～15:30　「成長する半導体アプリケーションとナノインプリントへの期待」
　第4講：15:45～17:00　「最先端リソグラフィ用EUVレジストおよびナノインプリントレジストの展開」
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【プログラム】

1．SCIVAXについて

2. ナノインプリント技術の基礎 -主要な要素技術、課題と対策-
　2-1. ナノインプリントとは
　2-2. ナノインプリントの各工程の代表的方式

3. ナノインプリントの装置
　3-1. SCIVAXナノインプリント装置の歴史

4．光学デバイスの作製事例
　4-1. 表面ナノ加工技術の産業への応用
　4-2. 光学デバイスへの応用①-ワイヤグリッド偏光子、構造性位相差板
　4-3. 光学デバイスへの応用② -ARグラス、メタレンズ-
　4-4. 光学デバイスへの応用③-３Dセンサー用光学素子

５．今後の展望
【質疑応答】

【講演主旨】

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　第1講：11:00～12:15　「ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎と将来」
　第2講：13:00～14:00　「ナノインプリント装置と光学デバイスへの応用」
　第3講：14:15～15:30　「成長する半導体アプリケーションとナノインプリントへの期待」
　第4講：15:45～17:00　「最先端リソグラフィ用EUVレジストおよびナノインプリントレジストの展開」
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【プログラム】

１　拡大する半導体アプリケーション   
　1.1 半導体市場の推移と長期トレンド
　1.2 AI
　1.3 クルマの知能化
　1.4 メタバース
　1.5 半導体技術動向

２　ナノインプリントの可能性と期待
　2.1 光融合プロセス
　2.2 ５G/６G通信
　2.3 メモリなど　
【質疑応答】

【講演主旨】

≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫

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　第1講：11:00～12:15　「ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎と将来」
　第2講：13:00～14:00　「ナノインプリント装置と光学デバイスへの応用」
　第3講：14:15～15:30　「成長する半導体アプリケーションとナノインプリントへの期待」
　第4講：15:45～17:00　「最先端リソグラフィ用EUVレジストおよびナノインプリントレジストの展開」
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【プログラム】

1. 私たちを取り巻く環境
2. リソグラフィ微細化の歴史
3. EUVレジスト
4. ナノインプリントレジスト
【質疑応答】