LIVE配信・WEBセミナー
開催日時 2026年11月25日（水） 13:00-17:05
受講料 1名60,500円（税込）より
★2026年11月25日WEBでオンライン開講。Eリソリサーチ 遠藤 政孝 氏、鴨志田技術事務所 鴨志田 洋一 氏、量子科学技術研究開発機構 山本 洋揮 氏の３名が、High-NA時代のEUVレジスト材料・プロセス技術と次世代リソグラフィ最新技術 について解説する講座です。
■本講座の注目ポイント
半導体の高集積化に伴い、EUVリソグラフィとレジスト材料の重要性が急速に高まっている。本講演では、2nm世代量産を支えるEUVの原理、課題（感度・解像度・ラフネス・確率的欠陥）と対策、さらにHigh‑NA EUVによる微細化の展望を解説。化学増幅型レジスト、メタルレジスト、ドライレジストなど次世代材料の技術動向を示し、3次元加工やBEUVを含む将来のリソグラフィ発展と産業界の対応について解説する。
01 Eリソリサーチ 遠藤 政孝 氏
02 鴨志田技術事務所 鴨志田 洋一 氏
03 量子科学技術研究開発機構 山本 洋揮 氏
13:00-14:15
第1講
講 師
Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏
【プログラム】
製作中です。14:25-15:40
第2講
講 師
鴨志田技術事務所 代表（元JSR(株)／神奈川大学）、フォトポリマー懇話会顧問、高分子学会フェロー 鴨志田 洋一 氏
【プログラム】
マイクロエレクトロニクス(ME)は現代社会の基盤技術であり、スマートフォン、コンピューター、自動車、医療機器など、あらゆる先進的な製品に不可欠である。情報時代を牽引し、経済成長とイノベーション創出の加速に寄与している。
AI特需に顕著にみられるように、半導体デバイスの高速化、大容量化への要求はとどまるところを知らない。これを支えているのがリソグラフィ技術の進化であり、現在最先端の2nmロジックノードの量産プロセスにはEUVリソグラフィが採用されている。その中核をEUVレジストが担っており、さらなる微細化を実現するため、解像度/感度/ラフネスのトレードオフの壁を乗り越える努力をしている。さらに、ポスト2nmノード技術の救世主として注目されているのが、High-NA EUVリソグラフィプロセスである。
本講演では、フォトレジストの進化を歴史的に俯瞰するとともに、EUVリソグラフィの概要を解説し、EUVレジストの基礎と要求特性、課題と対策について纏め、High-NA EUVリソグラフィプロセスに向けたレジストの最新技術動向を解説する。特に注目されているEUVメタルレジスト、EUVドライレジストプロセスについても述べ、今後のEUVレジストの技術展望について、デバイスメーカー、レジストメーカー等の産業界の対応も含めて纏める。
【章立て】
１．リソグラフィ技術の進化
1-1 マイクロエレクトロニクス(ME)と社会～AI技術の展開～
1-2 ＭＥの黎明期とフォトレジスト
1-3 フォトレジスト技術の変遷
1-4 リソグラフィ技術の進化の原動力
２．High-NA EUVリソグラフィの必然性
2-1 デバイスの大容量化、高速化のトレンド
2-2 リソグラフィ技術への要求
３． High-NA EUVリソグラフィへの道
3-1 EUVリソグラフィの概要
(1) 反射光学系システムの開発
(2) EUVレジストの開発
化学増幅型レジスト(CAR)、無機レジスト(MOR)
3-2 レジスト開発現状と課題／LERの要因と対応
3-3 無機レジスト(MOR)
感度・解像度／保存安定性
3-4 EUVLの課題
光源／露光装置／マスク／レジスト／評価装置
４．High-NA EUVリソグラフィへの選択肢
4-1 デバイスメーカーの対応
4-2 レジストメーカーの対応
５．課題と今後の展望
5-1 フォトレジストの高解像度化と現像プロセス
現像過程での膨潤と解像度
5-2 今後のパターン形成プロセス
5-3 デバイスの進化
5-4 PFASフリー
６．まとめ
質疑応答
【キーワード】
EUVリソグラフィ、EUVレジスト、EUVメタルレジスト、CAR、MOR、EUVドライレジストプロセス、High-NA EUV、ポスト2nmロジックノード
【講演の最大のPRポイント】
現代社会におけるマイクロエレクトロニクスの果たす役割の重要性を理解するとともに、フォトレジストの進化がどのような必然性をもって実現されてきたのか知ることができる。EUVリソグラフィの現状と課題、さらなる高集積化に向けてHigh-NA EUV世代への技術動向、産業界の対応を知り、将来進むべき方向を模索する一助となる。
【習得できる知識】
１.フォトレジスト材料の役割と進化の必然性
２.EUVリソグラフィの技術的特徴と実用化の必然性
３.ポスト2nmロジックノードを睨んだEUVレジストの課題
４.CARおよびMORなどHigh-NA EUV世代に向けたレジスト技術の動向及び産業界の対応
15:50-17:05
第3講
講 師
量子科学技術研究開発機構 高崎量子応用研究所 量子機能創製研究センター／主幹研究員 山本 洋揮 氏
【プログラム】
コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラフィが実現された。半導体微細加工技術であるEUVリソグラフィは、今後デジタル社会の構築において3次元微細加工技術と並んで極めて重要である。今後も更なる微細加工技術が要求されており、High-NAEUVリソグラフィなどをはじめ、次世代リソグラフィ技術が検討されている。
本セミナーでは、EUVリソグラフィ技術を中心に、近年活発に研究開発がなされている次世代リソグラフィ技術におけるそれぞれの原理、技術動向、他のリソグラフィ技術と比較した際の優位点をはじめ、実用化・普及の可能性、その微細加工材料などに関する最新動向について概説するとともに、我々の最新の成果を解説する。
【章立て】
1．はじめに
1.1 リソグラフィ工程とリソグラフィ技術の変遷
1.2 EUVリソグラフィの現状と課題
1.3 EUVリソグラフィレジスト評価システム
2．EUV/EBレジストの反応機構
2.1 次世代リソグラフィ用レジスト材料の要求特性
2.2 ＥＵＶ/EB化学増幅型レジストの問題点
2.3 EUV/EBリソグラフィ用化学増幅型レジストの反応機構
2.4 EUV/EBレジスト材料の反応機構に基づいた高性能化
3．メタルレジスト材料の性能評価
3.1 EUVリソグラフィ用メタルレジストの概要
3.2 放射線による金属ナノ粒子の形成メカニズムに基づいた有機無機ハイブリッドパターン形成
3.3メタル化合物の添加によるEUVレジストの高感度化
3.4 メタルレジスト材料の性能評価
４．ブロック共重合体を用いた自己組織化リソグラフィ技術の基礎と動向
4.1 ブロック共重合体の基礎
4.2 新規ブロック共重合体の合成と評価
５．今後の課題
質疑応答
【キーワード】
High―NA EUVリソグラフィ、メタルレジスト、ブロック共重合体、自己組織化リソグラフィ
【習得できる知識】
・次世代リソグラフィの技術動向
・レジスト材料開発
・半導体の微細化と極端紫外線（EUV）の基礎について
・EUV化学増幅型レジストシステムと反応機構について
・メタルレジストについて
・ブロック共重合体による自己組織化リソグラフィについて
・電子線リソグラフィについて
| セミナー番号 | S2611413 |
|---|---|
| セミナー名 | High-NA EUVレジスト材料 |
| 講師名 |
第1部 Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏 第2部 鴨志田技術事務所 代表（元JSR(株)／神奈川大学）、フォトポリマー懇話会顧問、高分子学会フェロー 鴨志田 洋一 氏 第3部 量子科学技術研究開発機構 高崎量子応用研究所 量子機能創製研究センター／主幹研究員 山本 洋揮 氏 |
| 開催日時 | 2026年11月25日（水） 13:00〜17:05 |
| 会場 | ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です |
| 受講料 | 【1名の場合】60,500円(税込、テキスト費用を含む) |
| 定員 | 30名 |
| 備考 | 定員：30名 ※ お申し込み後、受講票と請求書のURLが自動で返信されます。基本的にはこちらで受付完了です。開催前日16：00までに再度最終のご連絡をいたしますので、しばらくお待ちください。請求書と受講票は郵送ではないため必ずダウンロードください。また、同時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ずご確認ください。 ※ セミナー前日夕方16：00までにWEB会議のURL、事前配布資料のパスワードについては、別途メールでご案内いたします。基本的には、事前配布資料はマイページからのダウンロードの流れとなります。なお、事前配布資料については、講師側の作成完了次第のお知らせになりますので、この点、ご理解のほどお願い申し上げます。 ※ 請求書の宛名の「株式会社」や「(株)」の「会社名の表記」は、お客様の入力通りになりますので、ご希望の表記で入力をお願いします。 ※ お支払いは銀行振込、クレジット決済も可能です。銀行振込でお支払いの場合、開催月の翌月末までにお支払いください。お支払いの際は、社名の前に請求書番号をご入力ください。 ※ 領収書のご要望があれば、お申込み時、領収書要にチェックを入れてください。 ※ 2名以上でお申し込みをされた場合は、受講票と請求書を代表者様にご連絡します。 ※ 当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき22,000円で追加申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は22,000円となります)。追加の際は、申し込まれる方が追加の方を取りまとめいただくか、申込時期が異なる場合は紹介者様のお名前を備考欄にお書きくださいますようお願いいたします。 ※ なお、ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。 |
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