★2025年11月20日、2026年1月22日、2月19日WEBでオンライン開講。サクセスインターナショナル株式会社　鈴木　俊治　氏、池永　和夫　氏、沢田　憲一　氏が半導体産業と製造プロセス技術入門について解説する全3回の講座です。

■注目ポイント

　当講座は、代理参加＆録画視聴に対応しています！

　半導体の製造プロセスから品質管理、パッケージの組み立てまで全工程を解説する特別講座です。

■予定スケジュール

　※各講座の単回参加も可能です。

　第1回：2025年11月20日(金)「半導体デバイス製造プロセス」

　第2回：2026年1月22日(木) 「半導体パッケージと組立てプロセス」

　第3回：2026年2月19日(木)「半導体製造の品質管理・信頼性」

※諸事情により当初の予定スケジュールから変更させていただきました。この点ご了承ください。

★2026年2月19日WEBでオンライン開講。サクセスインターナショナル株式会社　沢田　憲一　氏が半導体製造現場における品質管理技術・製品信頼性と実践知識について解説する講座です。

■注目ポイント

★半導体製造現場に求められるユーティリティ、品質管理、製品信頼性とは？

★生産活動の基本としての各項目を、QDCSの観点から最適化に向けた留意点をについて学ぶ事ができる！

★2026年2月24日WEBオンライン開講。株式会社ISTL 代表取締役　礒部 晶 氏から、 半導体製造におけるPFASの使用状況と規制の影響 ～各国の規制動向と現状の対応、PFAS処理と代替材料開発動向ほか～ のテーマについて解説する講座です。

■本講座の注目ポイント
★有機フッ素化合物（PFAS）は優れた特性から幅広く利用され、半導体製造でも多くの工程に不可欠です。しかし一部PFASの有害性が認められ、規制が強化されています。本セミナーでは欧州REACHによる包括規制の最新動向を中心に、半導体産業への影響を解説します。さらにPFAS使用工程や目的、分析・処理技術、代替技術の進展、装置・材料・半導体メーカー各社の対応状況を整理し、今後の課題と展望を解説します。

★2026年2月24日 元凸版印刷　NPOサーキットネットワーク　 理事　事務局長　 大久保 利一先生が半導体基板におけるめっき技術の基礎と材料技術・課題、特にめっき浴管理やトラブル対策について、じっくり解説するまたとない講座です。

★トコトンやさしい半導体パッケージとプリント配線板の材料の本や、トコトンやさしい半導体パッケージ実装と高密度実装の本の編著者である大久保先生により講座！

★本セミナーでは、電解銅めっき、無電解銅めっき、無電解Ni/Auめっきの基礎を整理するとともに、めっき添加剤の作用機構、電流密度分布と膜厚均一化の考え方を解説し、現場で役立つ実務的な理解を提供する。

★2026年2月24日WEBでオンライン開講。 電気通信大学　 新竹先生、東京科学大学　土方先生がそれぞれの立場で誘電エラストマーを用いた高分子アクチュエータ・E-Skin（電子人工皮膚）の開発とロボティクスへの応用・課題について解説する講座です。

■注目ポイント

★誘電エラストマーアクチュエータは、構造が単純で薄く軽量であり、応答性に優れ大きな変形を出力できるうえ、高い電気機械効率を有する、有望なソフトアクチュエータ技術！

★本講演では、誘電エラストマーアクチュエータの原理や特徴、主要な材料および製作・設計方法について説明するとともに、把持・操作デバイス、モバイルロボット、ウェアラブル・医療応用など、ロボティクスにおける多様な応用事例を紹介し、最新の研究動向と今後の展望についても述べる！

★2026年2月25日WEBオンライン開講。【東京大学： 藤原弘和氏】半導体メーカーでのデバイス開発経験を持つ講演者が、EUVリソグラフィ技術の原理や課題、レジスト材料について解説します。

■本講座の注目ポイント
　当日にご参加できない方は録画視聴が可能です。（2/25～3/11）
　本講演では、微細加工技術の基礎から始まり、フォトリソグラフィ技術の原理や特長、さらに最新のEUVリソグラフィ技術について、光と物質の相互作用に基づいて詳しく解説します。リソグラフィを学びたい方、レジスト材料開発に携わる方に向けた講座です。

★2026年2月27日WEBオンライン開講。【横浜国立大学：馬場氏】長年シリコンフォトニクス・光集積回路を研究している専門家が、基礎からファウンダリを活用した製作。最新の研究を解説する講座です。

■本講座の注目ポイント
　シリコンフォトニクスは、データ通信・AI・センサ分野を支える光集積回路技術として急速に発展しています。本講演では、光導波路・アクティブデバイスの設計から最新の研究開発まで、講師の数多くのファウンダリ経験を経験に基づいて解説します。これからシリコンフォトニクスを活用したい研究者・技術者に向けた講座です。

★2026年2月27日WEBでオンライン開講。 株式会社荏原製作所　 今井氏、株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ　 岩畑氏、三菱ケミカル株式会社　 竹下氏がそれぞれの立場で半導体製造における洗浄プロセスの基礎・各工程に適した洗浄剤と新規応用展開について解説する講座です。

■注目ポイント

★半導体3D化、接合、において欠かせない洗浄プロセスに注目し、なぜ洗浄が重要なのか、どのような課題があるのかを分かりやすく整理！

★Wafer to Wafer と Die to Wafer の違いや特徴にも触れながら、先端パッケージング技術の洗浄の基礎的な考え方を解説！

★2025年2月27日WEBオンライン開講。東京科学大学　ファム ナムハイ 氏が、強磁性半導体 最新開発状況 ～基礎と特長、世界最高スピン機能半導体デバイスの実現～について解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★半導体と磁性体の特徴を融合できる強磁性半導体は、磁性体の不揮発性を持ち併せたようなエネルギー使用効率が極めて高い半導体デバイスが実現できると期待される。本講演では、強磁性半導体の第一人者である東京科学大学のファムナムハイ先生に、これまでとこれからの強磁性半導体について講演いただきます。

★2026年3月13日WEBでオンライン開講。第一人者の新潟大学 研究推進機構 研究教授　戸田 健司 氏が、レアアース依存低減に向けた蛍光体材料の最新動向 ～量子ドット・フッ化物・窒化物・酸化物の分子設計とLED・ディスプレイ・植物工場および太陽電池用波長変換膜の市場展望～ について詳細に解説する講座です。

★ディスプレイ・固体照明は光産業の中核を占め、発色と効率を左右する蛍光体の重要性は高いが、研究開発は分散しており動向把握が難しい。輸出規制強化では希土類問題が顕在化し、レアアース依存低減も急務となる。本講演では多くの企業との共同研究や技術指導の実績があり、アカデミアと産業界を繋ぐ強力なパイプ役である講師が、レーザー照明やマイクロLEDなど新応用を踏まえ、既存蛍光体の課題と新材料開発の最新動向を実用化視点で整理し、未公開情報に基づく材料設計指針と実装上の要点を示す。