書籍

★熊本大学　速水氏、株式会社日本触媒　郷田氏、信州大学　金子氏が、【酸化グラフェンの基礎物性・合成・評価および応用展開・量産化・用途拡大に向けた取り組み】について解説した講演テキストになります。

■本テキストの注目ポイント

★酸化グラフェン（GO）の基本的な特長、合成方法、還元、修飾方法の解説にはじまりGOの社会実装に向けた応用展開、社会実装を見据えたGOの合成からエネルギーデバイス化、触媒、医療、環境、農業など多岐にわたる応用例を紹介！

■本テキストの主題および状況

★酸化グラフェン（GO）は、黒鉛(グラファイト)を酸化させることによりナノレベルまで単層化し得られる素材で、厚み約1nｍ、シート長は数～数十ミクロンで高いアスペクト比・高表面積を兼ね備えております。

★酸化グラフェンは時々刻々変化する物質であるが、その変化を理解すると興味深い特性を抽出できます。酸化グラフェンは通常分離が困難なH2OとD2Oを識別する能力があります。また、柔らかい層状構造を利用すると結晶を包接することができ、分離速度が従来の１００倍以上の分離材を創製できます。更に酸化グラフェンから離れてグラフェンの熱運動を利用すると、高圧ボンベの代わりに細孔のあるカーボン粒子に高圧メタンを貯蔵できます。（講師より）

★ナノ材料は色々な分野でイノベーションをもたらす材料として注目されており、なかでも、ナノシートは、二次元性を活かした表面・界面の特性やそれらの電荷による静電的相互作用により、層間に種々のイオン、機能性分子をインターカレートした超格子からなる層状物質を容易に作製できます。真の有用な材料としてエネルギーデバイスや触媒の技術革新が渇望されているなか、ナノシートの利用価値が非常に高まってきております。（講師より）

■注目ポイント

★10年以上酸化グラフェンの基礎から応用検討まで進めてきた講師が基本的な特長や合成方法、還元、修飾方法や、酸化グラフェンの好適な用途先の紹介など裏話や小ネタを含めながら酸化グラフェンの魅力について紹介！

★酸化グラフェン（GO）の社会実装に向けた応用展開、実際に社会実装を見据えたGOの合成からエネルギーデバイス化、触媒、医療、環境、農業など多岐にわたる応用例を紹介!

★酸化グラフェンとその還元カーボンの構造と特性についてNature energy, Nature Communications, Science Advancesなどにアクセプトされた斬新な知見をご紹介！

■本講座の注目ポイント
★半導体デバイスを作製する上で必須のツールであるプラズマの基礎、物理的な考え方、特徴を解説します。前半では薄膜堆積やドライエッチングに用いられるプラズマ（非平衡プラズマと呼ばれる）の特徴や生成機構について、後半ではそれらを踏まえ、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法などについて解説します。

■本テキストの主題および状況

★半導体デバイスを作製する上で必須のツールであるプラズマの基礎、物理的な考え方、特徴を解説します。前半では薄膜堆積やドライエッチングに用いられるプラズマ（非平衡プラズマと呼ばれる）の特徴や生成機構について、後半ではそれらを踏まえ、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法などについて解説します。


■注目ポイント

★プラズマの基礎について学習、習得できる！

★プラズマCVDの特徴と原理（アモルファスSi薄膜を中心に）等について学習、習得できる！

★プラズマエッチングの特徴と原理（等方性、異方性）等について学習、習得できる！

★株式会社サークルクロスコーポレーション　小野氏が、【《2024年10月以降製品化の》最新XR機器の分解レベル解析を含むXR（VR/MR・AR）機器の搭載ディスプレイ・光学系技術解析とその動向】について解説した講演テキストになります。

★最新XR製品の分解レベル調査、中国出願の特許公報などを駆使した解析結果、XR機器動向、搭載ディスプレイの仕様を決める光学効率の定量把握、そしてXR機器技術を含む方向性展望について解説・報告！

■本テキストの主題および状況（講師より）

★2024年のXR機器販売は、一時Apple Vision Pro発売で盛り上がったが、価格高さの影響で売り上げは急激に低下しました。トップシェアのMeta社もQuest3の販売が伸びず、全体として低調な状況でありました。この状況で、2024年10月からCES2025展示会をはさみ意欲的なXR新製品が発売されました。しかし、十分な技術情報は公開されておらず詳細な比較検討が難しい状況であります。

★XR機器の光学系はVR/MRではPancake、ARではBirdbath、表面反射回折格子(SRG)　Waveguideが主に使われています。ARのBirdbathではOLED on Silicon (OLEDoS)、AR のWaveguideではLED on Silicon (LEDoS)採用が目立ちます。しかし、これらディスプレイが搭載されたXR機器の光学効率に関する既存報告の精度は低いです。例えば、Birdbathは<50％、Waveguide<5～10％程度であります。

■注目ポイント

★最新XR機器の構造及びレンズ光学系の光学効率の定量解析結果、最新ディスプレイOLEDoSとLEDoSの最新技術の詳細を報告！

★最新XR機器の分解レベル調査、中国特許出願の解析をベースにした技術内容の解明、24年製品との比較検討実施！

★最新XR機器搭載ディスプレイの画面サイズと機器重量、視野角FOVの関係性の解析、今後のXR機器および機器各社の方向性を予測！

★EOポリマーは、低誘電率と高い電気光学係数から、光変調器の高速化・低消費電力に期待されている次世代・有機材料です。当研究の第一人者である山田先生に、電気光学の基礎からEOポリマーの化学構造、光制御デバイスへの応用について詳しく解説いただきます。

★接着・接合技術を理解する上での学術的基礎、様々な研究者によって研究が進められている先端接合技術についてわかりやすく解説！

■本テキストの主題および状況（講師より）

★エレクトロニクスやメカトロニクスなどの分野では、デバイスの進化に伴い、異種材料の接着・接合技術の重要性は益々高まりつつあります。

★接着・接合技術には、有機系接着剤やはんだ等の金属系接合材料を用いるものだけでなく、表面活性化接合や分子接着技術など様々な手法が研究されています。しかし、これらの接着・接合技術の全体を見通せるような教科書は存在しておらず、それぞれの技術について個別に考えていくしかないのが実情です。

■注目ポイント

★異種材料の接合現象を理解するための化学結合や熱力学の基礎を解説！

★接着・接合強度に影響を及ぼす因子と強度測定法を解説！

★有機高分子系接着剤を用いた接着の基礎、金属系接合材料を用いた接合技術の基礎を解説！

★技術革新が盛んな半導体封止材、電気絶縁材、CFRPマトリックス、各種接着剤といったエポキシ樹脂の適用分野を紹介しながら「なぜエポキシなのか」という観点でエポキシ樹脂の特長について解説！

■本テキストの主題および状況

★エポキシ樹脂は、化学的に硬化する性質を持つ熱硬化性のポリマー材料であり、液体または粘土状の形態で提供され、特定の硬化剤と混合することで、堅固で耐久性のある固体材料に変化します。

★強度と耐久性に優れ、接着剤、コーティング材料、電子機器の封止や絶縁材料等に使用されます。

★硬化するまでの時間が調節でき、硬化剤の種類や配合によって異なる特性を持つ材料を作成できるため、多くの異なるアプリケーションに適した材料として広く利用されています。

■注目ポイント

★実際にエポキシ樹脂が適用されているアプリケーションを取り上げて要求特性を満たすための設計手法の一例を提示！

★エポキシ樹脂の設計については超高耐熱性、低誘電、熱伝導性といった特性に対してのアプローチを主剤、硬化剤、添加剤という各成分にスポットを当てて分かりやすく解説！

★今後のエポキシ樹脂のトレンドになりそうなリサイクルやバイオマスなどの現状について解説！

★再生プラスチックは環境負荷低減の視点から注目されているが、一度使用した素材を再利用するため、不純物の残留や、強度や品質の維持に課題が残る場合も少なくない。この問題解決として、添加剤の活用が有効である。その際の樹脂材料の変質劣化機構と添加剤の作用機構の基礎的な考え方から、工業化されている各種の樹脂材料の特性に対応するリサイクル手法技術の解説、また、最近の添加剤メーカーの再生樹脂用添加剤の紹介まで、再生樹脂材料の設計に関する全体的な理解が進むように本テキストは構成されている。

★高分子材料の品質劣化の機構と対策について学習、習得できる！

★樹脂のマテリアルリサイクルに関わる技術的課題について学習、習得できる！

★再生樹脂に対する添加剤の適用について学習、習得できる！

★再生樹脂用途に向けて最近開発された添加剤や処方の実例について学習、習得できる！

★再生樹脂材料設計の考え方について学習、習得できる！

★リソグラフィの基礎、EUVレジストの詳細を含めたレジストの基礎、トラブル対策と課題、最新のロードマップと先端デバイスの動向、今後のレジストの技術展望、市場動向について網羅的に解説！

★メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっております。

★微細加工を支えるリソグラフィ技術は現在先端の量産工程でダブル/マルチパターニング、EUVが用いられている。レジスト材料はこのようなリソグラフィ技術の変革に対応して進展し続けております。

★リソグラフィの基礎、デバイスの微細化を支えるレジストの基礎をEUVレジスト（化学増幅型EUVレジスト、EUVネガレジストプロセス、EUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセス）の詳細を含めて解説！

★レジスト／EUVレジスト、先端リソグラフィのトラブル対策をその要求特性、課題をふまえて解説！

★最新のロードマップと先端デバイスの動向、今後のレジストの技術展望、市場動向について解説！

★当テキストではPPS樹脂の歴史、重合、後処理、プラントの考え方、コンパウンド、物性、特徴、用途、成形加工、最近の高機能付与技術まで総合的に学ぶことが出来ます。

★技術的な知識が無くてもわかりやすく説明します。

■本テキストの注目ポイント

★進化し続けるロジック/メモリ/パワー半導体、そして、2.xD / 3D / モジュール化の最新技術・トレンドをわかりやすく紹介！

★半導体が支える「GX x DX x サステナビリティ」を駆動する成長産業の事例を紹介！

★半導体産業の永遠の課題とは？　共有、検討しましょう！