LIVE配信・WEBセミナー
開催日時 2026年10月13日(火) 10:30-16:30
受講料 1名55,000円(税込)より
★2026年10月13日WEBでオンライン開講。【関西大学 工藤氏】が、【KrF・ArFを中心とした半導体用レジスト材料の分子設計・合成・評価技術と、EB・EUV・メタルレジストへの展開】について解説する講座です。
■注目ポイント
★半導体用フォトレジスト材料の基礎から、化学増幅型レジストの原理、ポジ型・ネガ型、高分子・低分子レジストの材料設計について学ぶ講座です。KrF・ArFを中心としたレジスト材料の分子設計・合成から、評価手法や開発事例、さらにEB・EUV用レジストやメタルレジストなど最新材料までを幅広く理解できる内容となっています。
01 関西大学 工藤 宏人 氏
10:30-16:30
第1講
講 師
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏
【講演主旨】
フォトレジスト材料は,化学増幅型システムを基盤として,露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について,高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。【プログラム】
1,半導体の歴史とレジスト材料の変遷
1-1, 原理
1-2, 合成例
1-3, 化学増幅型レジスト材料の原理や例
(KrF・ArF・EUV用レジスト材料)
2,半導体の歴史とレジスト材料の変遷
2-1, 原理
2-2, 合成例
2-3, 化学増幅型レジスト材料の原理や例
3,ポジ型レジスト材料
3-1, 材料的な特性
3-2, 主な応用・用途
4, ネガ型レジスト材料
4-1, 材料的な特性
4-2, 主な応用・用途
5,高分子レジスト材料と低分子レジスト
5-1, 材料的な特性
5-2, 主な応用・用途
6,レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
6-1, レジスト材料の評価項目,評価手法について
6-2, レジスト材料の評価方法と開発例
7,最新型レジスト材料
7-1, メタルレジスト
7-2, EB,EUV用レジスト材料
8,良く出る質問,ケーススタディ,Q&A
【例1】レジスト組成物としての添加剤の使用目的とは?
【例2】レジスト材料の機械的特性の評価法とは?
【例3】アウトガスの発生原因とその測定方法とは?
【例4】光源の照射量・時間・強さの調整法とは?
【例5】カリックスアレーンのレジスト材料への可能性は?
【例6】レジスト材料の耐久性,寿命予測法とは?
【例7】レジスト材料に求められる改善点,課題とは?
【例8】レジスト材料の保存管理のポイントは?
【例9】レジスト材料の安全性や規格規制の動きは?
【例10】レジスト材料の海外での研究実例は?
質疑応答
【キーワード】
フォトレジスト、半導体、化学増幅型レジストシステム、KrF, ArF、ArF液浸、EB、EUV、メタルレジスト
【PRポイント】
これまでに開発されてきたレジスト材料の特性を理解し、レジスト材料の分子設計指針について理解を深めることができる。
同時に、現在のレジスト材料の問題点を克服し、改良ポイントなどの考察力をつけることができる。
【習得できる知識】
・レジストシ材料の基礎について理解する。
・レジスト材料の問題点について把握する。
・レジスト材料の分子設計方法について理解する。
・レジスト材料の開発の方向性について理解する。
・レジスト材料の今後の開発の方向性について理解する。
| セミナー番号 | S261062 |
|---|---|
| セミナー名 | レジスト材料 |
| 講師名 | 関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏 |
| 開催日時 | 2026年10月13日(火) 10:30〜16:30 |
| 会場 | ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です |
| 受講料 | 【1名の場合】55,000円(税込、テキスト費用を含む) |
| 定員 | 30名 |
| 備考 | 定員:30名 キャンセルポリシー・特定商取引法はこちら |