今井 正芳
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【登録No】 | 00000871 |
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【名前】 | 今井 正芳 |
【フリガナ】 | イマイ マサヨシ |
【生年月日】 | 1963-03-26 |
【会社名】 | 株式会社荏原製作所 |
【所属部署/役職】 | 精密・電子カンパニー 装置事業部 技術マーケティング課 |
【学位・資格】 | |
【経験】 | 事業開発経験者/企業技術者(OB含む) |
【対応可能サービス】 | セミナー/スポット専門家コンサルティング |
【対応方法】 | 早朝 or 夜間スポットコンサル対応可/事前面談(無料)対応可(WEB対応含む)/休日(土日祝祭日)対応可/Web対応可 |
【関心キーワード】 | 半導体洗浄一般/半導体CMP |
【動画URL】 | |
【経歴】 |
1985年 1985年:大日本スクリーン製造(株)(現 (株)SCREENホールディングス)入社、当初拡散炉の開発に従事。 1989年 洗浄装置研究開発に異動し主に枚葉洗浄プロセス開発に従事。一時、米国出向、Selete出向を経て、マーケティング部門に転向。 2010年 荏原製作所に入社、主にCMPの後洗浄プロセス技術開発に従事。2022年からマーケティング部門に異動し、現在に至る。 社外活動; 2002~2006 SEAJウェーハプロセスWG 委員(委員長含む) 2005~2009 STRJ WG4(配線) 委員 2017~ ADMETA委員(チュートリアル委員長含む) |
【専門内容】 |
これまで、私は「半導体のウェット洗浄」をキーワードとして掲げ、枚葉式洗浄のプロセス技術開発を中心に30年以上研究開発してきました。
|
【講演実績】 | 2001SEMI表面洗浄セミナー VLSIフォーラム 2004 2004 ISESH Commitment to ESH for Cleaning Equipment 2007 技術情報協会主催 洗浄技術セミナー 2008 技術情報協会主催 洗浄技術セミナー 2008 電子ジャーナル第186回ULSI洗浄・乾燥技術徹底検証 2023 CVD反応分科会第38回シンポジウム「化学機械研磨技術(CMP)とCMPに関する技術の基礎」 2024 技術情報協会セミナー「半導体洗浄の中のCMP洗浄とは」 2024 R&D支援センター「半導体製造の化学機械研磨(CMP)技術の概要とCMP後洗浄の特徴~今後の動向」 2024 情報機構セミナー「半導体製造の化学機械研磨(CMP)技術の概要とCMP後洗浄の特徴~今後の動向」 |
【受賞歴】 | |
【著書】 | 【製品紹介】スクリーンの枚葉洗浄装置 (クリーンテクノロジー (2001.8) 部分執筆 TN130nm以降のポリマー除去装置 (電子材料 (2003.10) 部分執筆 わが社の配線工程用洗浄技術・洗浄 (クリーンテクノロジー (2003.12) 部分執筆 65nm世代のウェット処理技術と装置 (産業タイムズ社『半導体産業新聞』(2005.10) エレクトロニクス洗浄技術 (技術情報協会、2007) 編集幹事 Cu/low-k構造プロセスの洗浄技術 (月間クリーンテクノロジー) (2007.12) 部分執筆 関東化学出版「THE CHEMICAL TIMES」特集電子デバイス製造技術に執筆 |
【論文】 | Controlling Cu Corrosion in Single Wafer Cleaning Process,Imai, et al., Proc. of SSDM, P28, (2008) |
【出願特許】 |
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