★2025年10月22日開講。【産総研・上級主任研究員：高 磊 氏】による、光導波路素子を２０年に渡って研究してきた専門家が、光導波構造の基礎とシリコンフォトニクス技術の展望と課題を解説する講座です。

■本講座の注目ポイント
　光導波路材料の選定から、変調・検出・光源などの素子の動作原理、異種材料を活用したハイブリッド集積技術への応用など、半導体光素子の設計や光電融合への展望を学べる講座です。シリコンフォトニクスは、新たなブレークスルーが求められています。現在の課題と展望、最先端の技術についても解説します。

★2025年10月23日WEBでオンライン開講。WEBでオンラインLive講義にどこからでも参加できます。第一人者の東京大学　 生産技術研究所　教授　小林　正治　氏のご講演。酸化物半導体（IGZO）系材料の基礎・研究開発動向とトランジスタ製造プロセス・次世代メモリへの応用展開についてご講演いただきます。

★TSMC・サムスンなどの大手半導体企業も注目、酸化物半導体（IGZO）系材料による次世代DRAM革新。2030年代、3Dメモリ実用化への扉を開く！

★低温プロセス・高移動度・低リーク、ディスプレイで確立されたIGZOからの材料が、今やメモリ材料の本命になってきた

★酸化物半導体の基礎から3D集積応用まで、開発者が押さえるべき最新研究と実用化課題を徹底解説！

★2025年10月24日WEBでオンライン開講。サクセスインターナショナル株式会社　沢田　憲一　氏が半導体製造現場における品質管理技術・製品信頼性と実践知識について解説する講座です。

■注目ポイント

★半導体製造現場に求められるユーティリティ、品質管理、製品信頼性とは？

★生産活動の基本としての各項目を、QDCSの観点から最適化に向けた留意点をについて学ぶ事ができる！

★2025年10月27日開講。【防衛大学・名誉教授：山本氏】に、MLCCの構造から電極材料の設計・製造方法と、信頼性評価について解説していただきます。

★2025年10月28日WEBでオンライン開講。WEBでオンラインLive講義にどこからでも参加できます。SOMPOインスティチュート・プラス株式会社　 秦野　貫　氏のご講演。フィジカルAI・ヒューマノイドロボットの開発最前線、海外動向と日本の見通しにつき、ご講演いただきます。

★フィジカルAIが拓く新時代 ― ヒューマノイドから社会実装まで、世界と日本の展望を読み解く！

★米中欧の先端動向から日本の未来戦略まで。フィジカルAIの研究・事業開発に直結する知見を得る講座です！

★2025年10月29日WEBでオンライン開講。イトウデバイスコンサルティング　 伊藤氏（元コーニングジャパン）、 株式会社レゾナック　藤氏、東レエンジニアリング株式会社　河村氏がそれぞれの立場で先端半導体パネルレベルパッケージ対応とガラス化の最新動向・材料・装置について解説する講座です。

■注目ポイント

★先端半導体パッケージング技術におけるガラスとパネルレベルパッケージ（PLP）の動向を解説！ガラス基板とビア加工・パネルレベルインターポーザー・PLP塗布装置などを中心に講演する！

★従来の半導体パッケージの機能や構造、進化について概観し、次に、アドバンストパッケージなどにおけるガラス基板、ビア加工、ガラスやパネルレベルインターポーザーの基礎知識や採用の背景、装置動向、プロセス、課題について掘り下げる！

★2025年10月29日WEBオンライン開講。国立研究開発法人 産業技術総合研究所　細川 明秀 氏が、ポストネオジム磁石 最新開発動向 ～ネオジム磁石の基礎、Sm2Fe17N3磁石への展開と特長、Feリッチ組成磁石 最新開発動向～ について解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★CO2排出量の削減が問われる昨今、それらを推進する風力発電や自動車の電動化のモーター部分には、ネオジム磁石が利用されています。本講座では今後も伸び続ける事が予測されているネオジム磁石を含めた永久磁石材料の基礎と最近の動向について説明し、その上でポストネオジム磁石の候補として知られるSm2Fe17N3化合物の紹介と、実用化に向けた開発の歴史を前半(1990~2015年ごろ)と後半(2015~2025年ごろ)に分けて解説します。特に後半では産総研を中心として進めてきた独自研究の流れをダイジェストで紹介する内容となっており、さらにより高性能が期待されるFeリッチ組成磁石の開発動向についても概説します。ポストネオジム磁石開発の動向も紹介、新規磁石開発に取り組む方々の参考になれば幸いです。

★諸事情により日程を再調整いたしました。2025年10月31日開講。合同会社アミコ・コンサルティング　 CEO　 友安　昌幸　先生（元東京エレクトロン株　Samsung Electronics　華為技術日本株式会社）が、ドライエッチングの基礎・最新技術動向と微細加工技術について解説します。

★長年にわたり半導体製造プロセス、特にドライエッチング技術の研究開発に従事し、基礎理論から最先端の量産プロセスにおける実務経験までを幅広く網羅した内容！

★複雑な技術内容を、具体的な事例や図解を交えながら、半導体製造に馴染みのない方でも直感的に理解できるよう丁寧に解説します。

★2025年10月31日WEBでオンライン開講。WEBでオンラインLive講義にどこからでも参加できます。第一人者の株式会社LXスタイル　代表取締役　杉田 正 氏のご講演。AI時代のデータセンターが抱える熱問題の現状・課題と冷却技術による対策動向および今後の展望についてご講演いただきます。

★サーバー高密度化と生成AI普及により、データセンターの熱負荷と電力消費は急増している！

★その中でも放熱・冷却システムは安定稼働だけでなく、電力コスト削減と環境規制対応の要となる。

★本講座では、省エネ型冷却技術の最新動向と産業界の課題解決策を理解するためのヒントとしたい。

★2025年11月5日WEBオンライン開講。BHオフィス 代表　大幸 秀成 氏（元 株式会社東芝）が、CMOSの基礎と応用・活用技術 ～特徴・基礎構造・設計・基本動作/機能・シミュレーションツールほか～ について解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★1970年代に登場したCMOSデバイスは現在の半導体製品の基礎技術として常に進化しています。低消費電力、広い動作電圧、高い集積度等により、あらゆる電機・電子機器に組み込まれ、ダウンサイジングや電池による長時間動作の実現に欠かせないテクノロジーです。　
　コンピューティングに必要な演算回路はすべてCMOS回路で成り立っています。コンピューター・サーバーに用いるNVIDIAのGPUは数百億のCMOS素子が集積されたデバイスであり、これの出現によって、生成AIの商用化が加速されました。また、スマホやパソコン、スマートウォッチもCMOSデバイスの進化が支えています。今一度CMOSの歴史と進化、基本機能、活用事例、そして今後の展開を見てみましょう。