鈴木 俊治
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【登録No】 | 00000812 |
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【名前】 | 鈴木 俊治 |
【フリガナ】 | スズキ トシハル |
【生年月日】 | 1945-06-12 |
【会社名】 | サクセスインターナショナル |
【所属部署/役職】 | 無所属 / 技術顧問 |
【学位・資格】 | 博士(DR) |
【経験】 | マネジメント経験者/企業技術者(OB含む)/大学研究者 |
【対応可能サービス】 | セミナー/出版物/技術コンサルタント派遣/講師派遣(社員研修) |
【対応方法】 | 英語対応可/事前面談(無料)対応可(WEB対応含む)/休日(土日祝祭日)対応可/Web対応可 |
【関心キーワード】 | 半導体技術/CMOS LSI技術/CMOS LSI作製プロセス技術/Si熱酸化技術/イオン注入技術/熱処理技術 |
【動画URL】 | |
【経歴】 |
1968~ Siデバイス・プロセス技術開発(ソニー中央研究所) 1975~ CCD用Si基板の開発、酸化・熱処理技術の開発 1981~ 化合物半導体(GaAs、GaAlAs)デバイス・プロセス開発 1989~ LSIプロセス技術開発 (ソニー超LSI技術研究所 1993~ 超LSI技術の研究開発企画 2001~ ディスプレー技術開発 (PDP製造プロセス技術 LTPS TFT作製技術) 2002 博士号取得 2003~2009 イオン注入装置開発企画/推進(住友重機会イオンテクノロジー㈱) 2010~2013 ㈱サクセスインターナショナル 技術顧問 |
【専門内容】 |
半導体物性、CMOS LSI技術、CMOS LSI作製プロセス技術、Si熱酸化技術、Ion注入技術、熱処理技術
|
【講演実績】 | サクセスインターナショナル開催のセミナーで多数回 「若手技術者に向けた半導体製造工程のオーバービュー」於Semicon. Japan 2016~2023まで1回/年 半導体産業人協会の教育委員として多数回 |
【受賞歴】 | |
【著書】 | 1.「0.5~0.35ミクロン対応アニール技術」、サイエンスフォーラム刊 『ULSI製造装置実用便覧』第2篇第4章『アニール装置』第1節、261 (1991)(共著) 2‐1.ロジックLSIの微細化と課題、グローバルネット(株)刊『先端LSI技術体系』 第1章1最先端LSIデバイスの動向 p.8 (1912)(共著) 2‐2.イオン注入技術と活性化アニール技術 同上 第2章先端プロセス技術5 p.159(共著) |
【論文】 | Infrared rapid annealing of Zn-implanted GaAs T. Suzuki, H. Sakurai and M. Arai Applied Physics Letters Vol. 43 (10), 951 (1983) Capless Rapid Thermal Annealing in As-overpressure and its Annealing Mechanism for Si Implanted into GaAs T. Suzuki, S. Komatsuzaki and J. Kasahara, Inst. Phys. Conf. Ser. No.106:Chapter 8, Paper Presented at Int, Symp. GaAs and Related Compounds, Karuizawa, Japan, 529 (1989) Effects of ion beam current density and substrate temperature on damage generation and activity in Si implanted GaAs. Toahiharu Suzuki Tech. Dig. 2004 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices, June 30-July 2, Sasebo (2004) Relation between the suppression of the generation of stacking faults and the mechanism of silicon oxidation during annealing under argon including oxygen T. Suzuki Journal of Applied Physics Vol. 88(2) 1141 (2000) Effect of annealing a silicon wafer in argon with very low oxygen partial pressure T. Suzuki Journal of Applied Physics Vol. 88(11) 6881 (2000) Oxygen partial pressure dependence of suppressing oxidation-induced stacking fault generation in argon ambient annealing including oxygen and HCl T. Suzuki Applied Surface Science Vol. 180/1-2, 168 (2001) Suppression of oxidation-induced stacking fault generation in argon ambient annealing with controlled oxygen and the effect upon bulk defects T. Suzuki Material Science in Semiconductor Processing Vol. 5, 5 (2002) PH3およびB2H6による新しい拡散法 鈴木俊治、藤井良昭、岡 義雄 半導体集積回路技術シンポジューム pp.7(1974) [Invited] Precise Ion Implantation for Advanced MOS LSIs Toshiharu Suzuki Tech. Dig. 2008Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices, June 9-11, Sapporo (2008) 信学技報 IEICE Technical Report ED2008-44, SMD2008-63(2008-07) [Invited] Flat panel display -Impurity doping technology of flat panel display- Toshiharu Suzuki Nuclear Instrument and Method in Physics Research B 237 395-401 (2005) Flat panel display for ubiquitous product applications and related impurity doping technologies Toshiharu Suzuki Journal of Applied Physics 99(11), 111101-15 (2006), APPLIED PHYSICS REVIEWS-FOCUSED REVIEW この他、共著論文多数 |
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【名前】 | タニグチシゲヒト |
【ご所属(法人名)】 | 無所属(旧 住友電装(株)電子事業本部 グローバル製造部 |
【所属部署/役職】 | 無所属(旧担当部長) |
【学位・資格】 | マイクロソルダリング技術者、実装工程管理技術者、マイクロ はんだ・オペレータ/インスペクタ(以上日本溶接協会)、QC検定 2級(日本規格協会)、危険物乙4類、有機溶剤作業、鉛作業、 乾燥設備作業、第2酸素欠乏作業、特定化学物質作業 各主任者 (以上労働基準監督署)、中学・高校教員免許(理科)、ものつくり(はんだ)専門家(三重県産業支援センター) |
【経 験】 |
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